[发明专利]硅基集成的外腔窄线宽激光器有效

专利信息
申请号: 202111268114.0 申请日: 2021-10-28
公开(公告)号: CN114006263B 公开(公告)日: 2023-09-05
发明(设计)人: 陈少康;陈寅芳;徐长达;金亚;穆春元;陈伟;刘宇;李明;祝宁华 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01S5/14 分类号: H01S5/14;H01S5/20;H01S5/028;H01S5/065
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王文思
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 集成 外腔窄线宽 激光器
【权利要求书】:

1.一种硅基集成的外腔窄线宽激光器,其特征在于,包括:

硅衬底,上表面为外延生长区;

增益芯片,通过异质外延或异质键合于所述外延生长区的一端;

多模干涉波导结构,外延生长于所述外延生长区内,输入端与所述增益芯片的反馈光端面相对,用于对所述增益芯片产生的激光进行选模和线宽压窄;

反射结构,设于所述外延生长区上,与所述多模干涉波导结构的输出端耦合,用于反射所述激光,使所述激光经过所述多模干涉波导结构后进入所述增益芯片,被所述增益芯片放大后从出射光端面输出;

所述多模干涉波导结构由多个单模波导和多个多模波导级联构成,其中,所述多个单模波导和所述多个多模波导交替设置。

2.根据权利要求1所述的激光器,其特征在于,所述多个单模波导和多个多模波导级联的头部和尾部均为单模波导。

3.根据权利要求1所述的激光器,其特征在于,所述多个单模波导和所述多个多模波导呈直线型排列。

4.根据权利要求1所述的激光器,其特征在于,所述多个单模波导和所述多个多模波导呈曲线型排列。

5.根据权利要求1所述的激光器,其特征在于,所述增益芯片的反馈光端面镀有增透膜。

6.根据权利要求1所述的激光器,其特征在于,所述增益芯片为砷化镓基半导体增益芯片、或铟磷基半导体增益芯片。

7.根据权利要求1所述的激光器,其特征在于,所述多个单模波导和所述多个多模波导均为硅基波导。

8.根据权利要求1所述的激光器,其特征在于,所述反射结构为高反膜。

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