[发明专利]一种改善AA hole横向mura的方法在审

专利信息
申请号: 202111248584.0 申请日: 2021-10-26
公开(公告)号: CN113889021A 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 郑剑花 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: G09G3/20 分类号: G09G3/20
代理公司: 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 代理人: 戴雨君
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 改善 aa hole 横向 mura 方法
【说明书】:

发明公开了一种改善AA hole横向mura的方法,包括如下步骤:S1:标记AA hole横向mura的pixel位置,此位置为区域二,区域二gamma单独控制;S2:调节区域一gamma并抓取调节后的各灰阶绑点的亮度;S3:将抓取到的各个灰阶绑点的亮度设置为区域二的目标亮度,并调节区域二的gamma;S4:抓取区域二各灰阶亮度并与区域一的亮度进行对比,若亮度相差2%,即判定OK,若2%,则返回步骤S2;S5:记录区域一及区域二的gamma寄存器值,记录两者的差值,烧录区域一的寄存器值和区域二的差值,对区域二进行offset补偿。本发明标记区域二位置,分开调试区域一和二的gamma,达到区域二和区域一亮度一致的效果,有效解决AA hole横向mura,并节省存储空间。

技术领域

本发明属于AA hole面板技术领域,具体涉及一种改善AA hole横向mura的方法。

背景技术

目前屏下挖孔处于主流阶段,但是在AA hole区(如图1中的②所示)存在明显mura问题,一般存在比正常显示区(如图1中的①所示)偏暗的问题。目前市面上主流的AA hole面板,由于在AA hole的区域需要绕线,RC loading相较于正常显示区域大一些,data的充电较慢,如图2-3所示,像素充电较慢,在TFT关闭前无法达到预定的data准位,则挖孔区对应的横向区域二会出现偏暗mura现象。为此,我们提出一种改善AA hole横向mura的方法,以解决上述背景技术中提到的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种改善AA hole横向mura的方法,以解决上述背景技术中提出的问题。

目前屏下挖孔处于主流阶段,但是在AA hole区(如图1中的②所示)存在明显mura问题,一般存在比正常显示区(如图1中的①所示)偏暗的问题。

目前市面上主流的AA hole面板,由于在AA hole的区域需要绕线,RC loading相较于正常显示区域大一些,data的充电较慢,如图2-3所示,像素充电较慢,在TFT关闭前无法达到预定的data准位,则挖孔区对应的横向区域二会出现偏暗mura现象。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种改善AA hole横向mura的方法,包括如下步骤:

S1:标记AA hole横向mura的pixel位置,此位置为区域二,区域二gamma单独控制;

S2:调节区域一gamma并抓取调节后的各灰阶绑点的亮度;

S3:将抓取到的各个灰阶绑点的亮度设置为区域二的目标亮度,并调节区域二的gamma;

S4:抓取区域二各灰阶亮度并与区域一的亮度进行对比,若亮度相差2%(通过实验测试2%人眼不易察觉亮度差),即判定OK,若2%,则返回步骤S2;

S5:记录区域一及区域二的gamma寄存器值,记录两者的差值,烧录区域一的寄存器值和区域二的差值,对区域二进行offset补偿。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明提供的一种改善AA hole横向mura的方法,本发明标记区域二位置,分开调试区域一和二的gamma,达到区域二和区域一亮度一致的效果,解决因AA hole处区域RC loading较大造成的横向区域偏暗mura问题,有效解决AA hole横向mura,并节省存储空间。

附图说明

图1为AA hole示意图;

图2为Pixel电路简图;

图3为图2对应pixel充电波形图;

图4为本发明一种改善AA hole横向mura的方法的流程示意图。

具体实施方式

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