[发明专利]结果数据库快速生成OPC测试版图的方法和系统、存储介质在审

专利信息
申请号: 202111238582.3 申请日: 2021-10-25
公开(公告)号: CN114020738A 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 解为梅 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: G06F16/22 分类号: G06F16/22;G06F16/242
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 刘昌荣
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 结果 数据库 快速 生成 opc 测试 版图 方法 系统 存储 介质
【说明书】:

发明公开了一种结果数据库快速生成OPC测试版图的方法和系统、存储介质,该方法包括以下步骤:步骤一,根据用户最受关注的检测项数据库,按照其格式读出各个检测项的性质并提取所需的信息以结构单元的数据格式寄存在结果数据库的树数据结构中;步骤二,读取树数据结构,选中检测项的弱点;步骤三,根据坐标生成截取盒子并通过交集逻辑操作将选中的检测项的弱点所在的GDS截取出来,寄存在Gdsii数据结构中;步骤四,将已截取出的GDS片段均匀排布,生成新的OPC测试版图。本发明方便手续芯片数据收集。

技术领域

本发明涉及一种结果数据库快速生成OPC测试版图的方法和系统存储介质。

背景技术

高节点半导体芯片生产工艺是需要通过多次实践迭代优化的,其中,OPC(OpticalProximity Correction,光学临近校正)部门在对版图修正的过程中会通过模型拟合预测可能的弱点,这些弱点的个数随着模型范围的改变而改变。如果模型设置的条件苛刻,则会预测出成千上万处可能的弱点版图,这些版图会被筛选、剪裁、重组成OPC测试版图,放在下一次出版版图中。Mentor厂商的Calibre工具在OPC版图修正的过程中提供这些弱点的相关参数,如坐标、弱点类型,给GUI(Graphical User Interface,图形用户界面)分析方面带来了极大的便利。然而,Calibre工具在下一代OPC测试版图生成方面仍然空缺,目前只能导出一种结果数据库(Relational Database,RDB),并不能对后续出版提供方便。Mentor厂商提供了简单的剪裁方法,但是弱点版图分布分散,无法直接使用。

发明内容

针对上述情况,为了克服现有技术的缺陷,本发明提供一种结果数据库快速生成OPC测试版图的方法和系统、存储介质。

本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题的:一种结果数据库快速生成OPC测试版图的方法,其特征在于,其包括以下步骤:

步骤一,根据用户最受关注的检测项数据库,按照其格式读出各个检测项的性质并提取所需的信息以结构单元的数据格式寄存在结果数据库的树数据结构中;

步骤二,读取树数据结构,选中检测项的弱点;

步骤三,根据坐标生成截取盒子并通过交集逻辑操作将选中的检测项的弱点所在的GDS截取出来,寄存在Gdsii数据结构中;

步骤四,将已截取出的GDS片段均匀排布,生成新的OPC测试版图。

优选地,所述步骤四的GDS片段均匀排布是将相同性质的GDS按照值由大到小,在同一排均匀放置。

优选地,在所述OPC测试版图的左下角生成十字。

优选地,所述结果数据库包括检测项的名称、检测项的性质、弱点版图坐标、弱点版图所在的cell名称。

优选地,所述树数据结构中每个种类的检测项分别放在一行,依次对应检测项的性质由大到小排列。

本发明还提供一种结果数据库快速生成OPC测试版图的系统,其特征在于,其包括:

读出模块,将各个检测项的性质读出;

第一寄存模块,将读出模块读出的各个检测项的性质寄存在结果数据库的树数据结构中;

选中模块,选中检测项的弱点;

截取模块,将选中的检测项的弱点所在的GDS截取出来;

第二寄存模块,将已截取出的GDS片段寄存在Gdsii数据结构中;

排布模块,将已截取出的GDS片段均匀排布;

写出模块,完善最终的Gdsii数据结构,然后将Gdsii数据结构写出,生成新的OPC测试版图。

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