[发明专利]一种聚合物及含其的193nm光刻用顶涂层膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 202111231202.3 申请日: 2021-10-22
公开(公告)号: CN116003665A 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 王溯;方书农;徐森;林逸鸣 申请(专利权)人: 上海芯刻微材料技术有限责任公司
主分类号: C08F216/14 分类号: C08F216/14;C08F222/20;C09D129/10
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 王卫彬;陈卓
地址: 201616 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 聚合物 193 nm 光刻 涂层 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种聚合物,其特征在于,所述聚合物的制备方法包括下列步骤:将式A所示的单体、式B所示的单体和式L所示的单体聚合;

2.如权利要求1所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物的制备方法中,以重量份数计,所述式A所示的单体的重量份数为2-10份;

和/或,所述聚合物的制备方法中,以重量份数计,所述式B所示的单体的重量份数为1-6份;

和/或,所述聚合物的制备方法中,以重量份数计,所述式L所示的单体的重量份数为1-4份;

和/或,所述聚合物的制备方法中,所述聚合物的重均分子量为8000-12000。

3.如权利要求2所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物的制备方法中,以重量份数计,所述式A所示的单体的重量份数为2份、4份、5份、8份或10份;

和/或,所述聚合物的制备方法中,以重量份数计,所述式B所示的单体的重量份数为1份、1.5份、2份、3.5份或6份;

和/或,所述聚合物的制备方法中,以重量份数,所述式L所示的单体的重量份数为1份、1.5份、2.5份或4份;

和/或,所述聚合物的制备方法中,所述聚合物的重均分子量为8848、9674、9933、10212或11182。

4.如权利要求1所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物的制备方法中,

以重量份数计,所述式A所示的单体的重量份数为2份,所述式B所示的单体的重量份数为1.5份,所述式L所示的单体的重量份数为1份,制得聚合物P1;

或者,以重量份数计,所述式A所示的单体的重量份数为4份,所述式B所示的单体的重量份数为1份,所述式L所示的单体的重量份数为1.5份;制得聚合物P2;

或者,以重量份数计,所述式A所示的单体的重量份数为5份,所述式B所示的单体的重量份数为2份,所述式L所示的单体的重量份数为1份;制得聚合物P3;

或者,以重量份数计,所述式A所示的单体的重量份数为8份,所述式B所示的单体的重量份数为3.5份,所述式L所示的单体的重量份数为2.5份;制得聚合物P4;

或者,以重量份数计,所述式A所示的单体的重量份数为10份,所述式B所示的单体的重量份数为6份,所述式L所示的单体的重量份数为4份;制得聚合物P5。

5.如权利要求4所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物P1的重均分子量为11182;

所述聚合物P2的重均分子量为10242;

所述聚合物P3的重均分子量为8848;

所述聚合物P4的重均分子量为9674;

所述聚合物P5的重均分子量为9933;

和/或,所述聚合物P1至P5的制备方法中,在偶氮二异丁腈0.1份和甲基乙基酮15份的情况下进行。

6.如权利要求1~5任一项所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物的制备方法包括以下步骤:有机溶剂中,将所述的式A所示的单体、所述式B所示的单体、所述式L所示的单体在引发剂的作用下进行聚合反应,得到所述聚合物。

7.如权利要求6所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物的制备方法中,所述有机溶剂为酮类溶剂;

和/或,所述聚合物的制备方法中,所述引发剂为偶氮类引发剂;

和/或,所述聚合物的制备方法中,以重量份数计,所述有机溶剂的重量份数为10-20份;

和/或,所述聚合物的制备方法中,以重量份数计,所述引发剂的重量份数为0.05-0.3份;

和/或,所述聚合物的制备方法中,所述聚合反应为在惰性气体下进行;

和/或,所述聚合物的制备方法中,所述聚合反应的温度为60-90℃;

和/或,所述聚合物的制备方法中,所述聚合反应的时间为8-20小时;

和/或,所述聚合物的制备方法中,所述聚合反应后还包括后处理步骤。

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