[发明专利]一种聚合物及含其的193nm光刻用顶涂层膜的制备方法在审
| 申请号: | 202111231202.3 | 申请日: | 2021-10-22 |
| 公开(公告)号: | CN116003665A | 公开(公告)日: | 2023-04-25 |
| 发明(设计)人: | 王溯;方书农;徐森;林逸鸣 | 申请(专利权)人: | 上海芯刻微材料技术有限责任公司 |
| 主分类号: | C08F216/14 | 分类号: | C08F216/14;C08F222/20;C09D129/10 |
| 代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 王卫彬;陈卓 |
| 地址: | 201616 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 聚合物 193 nm 光刻 涂层 制备 方法 | ||
1.一种聚合物,其特征在于,所述聚合物的制备方法包括下列步骤:将式A所示的单体、式B所示的单体和式L所示的单体聚合;
2.如权利要求1所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物的制备方法中,以重量份数计,所述式A所示的单体的重量份数为2-10份;
和/或,所述聚合物的制备方法中,以重量份数计,所述式B所示的单体的重量份数为1-6份;
和/或,所述聚合物的制备方法中,以重量份数计,所述式L所示的单体的重量份数为1-4份;
和/或,所述聚合物的制备方法中,所述聚合物的重均分子量为8000-12000。
3.如权利要求2所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物的制备方法中,以重量份数计,所述式A所示的单体的重量份数为2份、4份、5份、8份或10份;
和/或,所述聚合物的制备方法中,以重量份数计,所述式B所示的单体的重量份数为1份、1.5份、2份、3.5份或6份;
和/或,所述聚合物的制备方法中,以重量份数,所述式L所示的单体的重量份数为1份、1.5份、2.5份或4份;
和/或,所述聚合物的制备方法中,所述聚合物的重均分子量为8848、9674、9933、10212或11182。
4.如权利要求1所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物的制备方法中,
以重量份数计,所述式A所示的单体的重量份数为2份,所述式B所示的单体的重量份数为1.5份,所述式L所示的单体的重量份数为1份,制得聚合物P1;
或者,以重量份数计,所述式A所示的单体的重量份数为4份,所述式B所示的单体的重量份数为1份,所述式L所示的单体的重量份数为1.5份;制得聚合物P2;
或者,以重量份数计,所述式A所示的单体的重量份数为5份,所述式B所示的单体的重量份数为2份,所述式L所示的单体的重量份数为1份;制得聚合物P3;
或者,以重量份数计,所述式A所示的单体的重量份数为8份,所述式B所示的单体的重量份数为3.5份,所述式L所示的单体的重量份数为2.5份;制得聚合物P4;
或者,以重量份数计,所述式A所示的单体的重量份数为10份,所述式B所示的单体的重量份数为6份,所述式L所示的单体的重量份数为4份;制得聚合物P5。
5.如权利要求4所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物P1的重均分子量为11182;
所述聚合物P2的重均分子量为10242;
所述聚合物P3的重均分子量为8848;
所述聚合物P4的重均分子量为9674;
所述聚合物P5的重均分子量为9933;
和/或,所述聚合物P1至P5的制备方法中,在偶氮二异丁腈0.1份和甲基乙基酮15份的情况下进行。
6.如权利要求1~5任一项所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物的制备方法包括以下步骤:有机溶剂中,将所述的式A所示的单体、所述式B所示的单体、所述式L所示的单体在引发剂的作用下进行聚合反应,得到所述聚合物。
7.如权利要求6所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物的制备方法中,所述有机溶剂为酮类溶剂;
和/或,所述聚合物的制备方法中,所述引发剂为偶氮类引发剂;
和/或,所述聚合物的制备方法中,以重量份数计,所述有机溶剂的重量份数为10-20份;
和/或,所述聚合物的制备方法中,以重量份数计,所述引发剂的重量份数为0.05-0.3份;
和/或,所述聚合物的制备方法中,所述聚合反应为在惰性气体下进行;
和/或,所述聚合物的制备方法中,所述聚合反应的温度为60-90℃;
和/或,所述聚合物的制备方法中,所述聚合反应的时间为8-20小时;
和/或,所述聚合物的制备方法中,所述聚合反应后还包括后处理步骤。
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