[发明专利]超声波喷雾装置

说明书

本发明提供了一种超声波喷雾装置，包括壳体结构和雾化器，壳体结构包括气流室和雾流室，且气流室和雾流室分别与外部气源相连通，气流室设有输出气体的喷气口，雾流室设有输出液雾的喷雾口，且喷气口的输出路径与喷雾口的输出路径至少部分交叉；雾化器至少部分插设于壳体结构内，并连通于雾流室，其中，雾化器用于沿趋向于地面的方向输出液雾。相较于传统的喷雾装置，在本实施例的超声波喷雾装置中，通过设置雾化器与壳体结构的配合，可以增加超声波喷雾装置的雾化效率以及有效喷雾方向，结构简单，使用效果好。

技术领域

本发明涉及液体雾化技术领域，尤其涉及一种高效率的超声波喷雾的装置，主要用于纳米薄膜涂覆及喷雾热解法制备超细粉体。

背景技术

超声雾化是液体雾化的一种非常常见的雾化方式，在加湿、雾化消毒、香熏、美容、精密喷涂、喷雾热解、喷雾干燥等领域有着广泛的应用。特别是在纳米薄膜和纳米粉体制备方面，通过超声波将前驱液体雾化成微米级颗粒后均匀沉积在基材表面可形成亚微米级到纳米级的薄膜涂层，或将微米级的液雾送入高温炉中进行热裂解反应，从而制备出亚微米级到纳米级的超细粉体。超声雾化方式一般是由压电陶瓷单晶换能器组成的超声雾化雾化器，又称超声雾化片。该技术是利用压电陶瓷换能器(雾化片)在液体中振动发出超声波，使液体撕裂成细小液滴，从而形成雾化。

利用该技术组成的雾化装置通常将超声波雾化片浸入在一定深度的液体中，超声波从下向上发射，将液体推起一个喷泉，在喷泉最高点(一般为超声雾化片的焦距)处将液体撕裂成雾滴形成液雾。此种技术的缺陷在于，由于雾化片处于一定深度的液体底部，受到液体压力的作用，雾化片的振动受到一定阻碍，从而降低了超声雾化的效率。超声频率越高，这种阻碍就越大，雾化效率就越低，而对于超细粉体和薄膜的制备应用，雾化颗粒越细制备的薄膜材料就越薄、超细粉体颗粒就越小。故此，在保证可以制备超薄薄膜和超细粉体的情况下，使用高频率超声雾化的雾化效率成为领域内的一大技术问题。

发明内容

本发明提供一种超声波喷雾装置，用于解决传统的超声波喷雾装置雾化效率较低的问题。。

本发明提出一种超声波喷雾装置，包括：

壳体结构，包括气流室和雾流室，且所述气流室和所述雾流室分别与外部气源相连通，所述气流室设有输出气体的喷气口，所述雾流室设有输出液雾的喷雾口，且所述喷气口的输出路径与所述喷雾口的输出路径至少部分交叉；以及

雾化器，至少部分插设于所述壳体结构内，并连通于所述雾流室，其中，所述雾化器用于沿趋向于地面的方向输出所述液雾。

根据本发明的一个实施例，所述气流室包括气流室本体和喷气嘴，所述气流室内部设有连通于所述喷气口的气流腔，所述喷气嘴的一端连接于所述气流室本体，所述喷气口设于所述喷气嘴的另一端，且所述喷气嘴远离所述气流室本体的一端朝下倾斜，且倾斜角度α为100°-160°；

所述雾流室包括雾流室本体和喷雾嘴，所述雾流室本体内部设有连通于所述喷雾口的雾流腔，所述喷雾嘴的一端连接于所述雾流室本体，且所述喷雾口设于所述喷雾嘴的另一端；所述壳体结构还包括安装件，所述安装件设于所述气流室内，并用于分隔所述气流腔和所述雾流腔；所述雾化器至少部分插设于所述安装件内；其中，所述喷气嘴至少部分设于所述喷雾嘴的上侧。

根据本发明的一个实施例，所述气流室本体还设有连通于所述气流腔的第一进气口，且所述第一进气口和所述喷气口分别位于所述气流室本体的相对两侧；所述雾流室本体还设有连通于所述雾流腔的第二进气口，沿所述雾流室本体的轴向正投影，所述第二进气口和所述喷雾口分别位于所述雾流室本体的相对两侧；所述第一进气口和所述第二进气口用于与外部气源连接，且所述第一进气口和所述第二进气口不相连通。