[发明专利]一种提高均匀分布SERS基底光谱一致性的方法在审

专利信息
申请号: 202111192565.0 申请日: 2021-10-13
公开(公告)号: CN114062344A 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 曹召良;张申;江志辉;毛红敏;沈毅力;李文峰;彭建涛;饶启龙;徐国定 申请(专利权)人: 苏州科技大学
主分类号: G01N21/65 分类号: G01N21/65
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 曹毅
地址: 215000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 均匀分布 sers 基底 光谱 一致性 方法
【权利要求书】:

1.一种提高均匀分布SERS基底光谱一致性的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:

步骤1)首先构建微纳结构占空比的计算方法;

步骤2)测量不同占空比下的拉曼光谱强度,建立微纳结构占空比与拉曼光谱强度之间的定量关系并形成相应的关系公式;

步骤3)利用关系公式,以基准占空比进行反演测量不同区域得到不同的光谱强度,推算出其对应基准占空比的光谱强度,从而获得SERS基底的光谱强度。

2.根据权利要求1所述的提高均匀分布SERS基底光谱一致性的方法,其特征在于,所述步骤1)中,构建微纳结构占空比的计算方法为:

步骤1.1)在SERS基底上选取测量区域;

步骤1.2)打开照射激光,并记录显示的图片;

步骤1.3)获取激光光斑位置和大小信息;

步骤1.4)关闭激光,并记录同一位置处纳米结构的图片;

步骤1.5)利用激光光斑位置和大小信息获取被测区域图像上的微纳结构和微纳结构之间的空隙信息;

步骤1.6)对被测区域图像进行二值化处理,以不同色块区域来表示微纳结构和空隙信息;

步骤1.7)仅保留激光覆盖区域进行占空比计算,将SERS基底视为二维平面结构,定义微纳结构占空比:,式中,SnanoSexciting分别是微纳结构和激光光斑的面积。

3.根据权利要求2所述的提高均匀分布SERS基底光谱一致性的方法,其特征在于,所述步骤1.5)中,将步骤1.3)中获取的激光光斑位置和大小信息转移到步骤1.4)中关闭激光后的同一位置处纳米结构的图片上,来获得激光覆盖区域的微纳结构和空隙信息。

4.根据权利要求2所述的提高均匀分布SERS基底光谱一致性的方法,其特征在于,所述步骤2)中,利用微纳结构占空比公式计算激光照射在SERS基底的不同位置处的占空比,同时测量在不同占空比下被检物质的拉曼光谱,来建立普适的拉曼光谱强度与微纳结构占空比之间的关系公式。

5.根据权利要求4所述的提高均匀分布SERS基底光谱一致性的方法,其特征在于,所述步骤2)中,检测至少两组不同的激光光斑直径时的微纳结构占空比和拉曼光谱,选取被检物质的特征峰,并将该特征峰强度进行归一化处理,生成拉曼光谱强度随微纳结构占空比变化的关系曲线,根据该关系曲线将拉曼光谱数据进行拟合后,拉曼光谱强度I表示为:,式中,r为微纳结构占空比,该式即为微纳结构占空比与拉曼光谱强度之间的关系公式。

6.根据权利要求5所述的提高均匀分布SERS基底光谱一致性的方法,其特征在于,所述步骤3)中,首先选取一个基准占空比,使得其它占空比下测得的光谱强度都归结到基准占空比,用于评价基底的光谱一致性,然后采用步骤2)中的关系公式进行拉曼光谱强度计算和归集,并与传统测量方法得到的光谱一致性进行比较,评价均匀分布SERS基底光谱的一致性。

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