[发明专利]一种光刻胶在ArF干法光刻中的应用

权利要求书

1.一种光刻胶组合物在ArF干法光刻中的应用；

所述的光刻胶组合物由下述原料制得，所述的原料包括如下以重量份数计的组分：75-95份的树脂、1.0-10份的光产酸剂、1000-2000份的溶剂、0.5-3.0份的淬灭剂和表面活性剂；

所述的树脂由如下以重量份数计的单体聚合得到：40-50份的单体A、0.5-5份的单体B、0.25-2.5份的单体C和0.25-2.5份的单体D；

其中，R¹为C_1-10的烷基；

R²为H或C_1-10的烷基；

R³为C_1-10的烷基；

R⁴为C_2-4的烯基；

R⁵和R⁶独立地为H或C_1-5的烷基。

2.如权利要求1所述的应用，其特征在于，所述的树脂满足如下一个或多个条件：

(1)R¹中，所述的C_1-10的烷基为C_1-5的烷基，优选为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基或叔丁基，例如甲基；

(2)R²中，所述的C_1-10的烷基为C_1-5的烷基，优选为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基或叔丁基，例如甲基；

(3)R³中，所述的C_1-10的烷基为C_1-5的烷基，优选为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基或叔丁基，例如甲基；

(4)R⁴中，所述的C_2-4的烯基为C_2-3的烯基，优选为乙烯基或异丙烯基，例如异丙烯基；

(5)R⁵中，所述的C_1-5的烷基，优选为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基或叔丁基，例如甲基。

3.如权利要求1所述的应用，其特征在于，所述的树脂满足如下一个或多个条件：

(1)所述的单体A为

(2)所述的单体C为

(3)所述的单体D为

(4)所述的单体A的份数为42.5-45；

(5)所述的单体B的份数为2.5-5份，例如3份；

(6)所述的单体C的份数为0.5-1.25份，例如0.75；

(7)所述的单体D的份数为0.5-1.25份，例如0.75或1.0；

(8)所述树脂的重均分子量为5000-10000，例如5544-9568；

(9)所述的树脂的分子量分布系数为1.0-2.0，例如1.5-2.0。

4.如权利要求1所述的应用，其特征在于，所述的单体A为份数为42.5-45份；

所述的单体B的份数为2.5-5份；

所述的单体C为份数为0.5-1.25份；

所述的单体D为份数为0.5-1.25份。