[发明专利]一种可调控的Ti-Al-C系MAX相涂层的制备方法在审

专利信息
申请号: 202111177314.5 申请日: 2021-10-09
公开(公告)号: CN113969392A 公开(公告)日: 2022-01-25
发明(设计)人: 汪爱英;李忠昌;王振玉;张栋;周定伟 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所;宁波工业技术研究院
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/35;C23C14/02;C23C14/16;C23C14/58
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 刘诚午
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 调控 ti al max 涂层 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种可调控的Ti-Al-C系MAX相涂层的制备方法,其特征在于,包括:

以Ti-Al复合靶作为溅射靶,以碳氢气体作为反应气源,所述的碳氢气体的流量为5-12sccm,对清洁后的基体表面进行直流磁控溅射得到Ti-Al-C涂层,将所述的Ti-Al-C涂层加热到600-700℃,保温60-180min得到Ti-Al-C系MAX相涂层。

2.根据权利要求1所述的可调控的Ti-Al-C系MAX相涂层的制备方法,其特征在于,所述的碳氢气体的流量为5-8sccm,得到Ti-Al-C系MAX相为211相。

3.根据权利要求1所述的可调控的Ti-Al-C系MAX相涂层的制备方法,其特征在于,所述的碳氢气体的流量为9-12sccm,得到Ti-Al-C系MAX相为312相。

4.根据权利要求1-3任一项所述的可调控的Ti-Al-C系MAX相涂层的制备方法,其特征在于,所述碳氢气体为乙炔或甲烷。

5.根据权利要求1所述的可调控的Ti-Al-C系MAX相涂层的制备方法,其特征在于,所述的直流磁控溅射的参数为:溅射靶功率为1500-2500W,基体负偏压为0-100V,腔体气压为0.6-1.2Pa,沉积时间为60-180min,真空度低于1-3×10-5Pa。

6.根据权利要求1所述的可调控的Ti-Al-C系MAX相涂层的制备方法,其特征在于,所述的Ti-Al复合靶的Ti-Al元素比为2:1.2~1.5。

7.根据权利要求1所述的可调控的Ti-Al-C系MAX相涂层的制备方法,其特征在于,对所述的基体表面进行清洁,包括:

对基体表面用400#~2000#的SiC砂纸打磨,然后抛光预处理后在丙酮中超声清洗10-15min。

8.根据权利要求1所述的可调控的Ti-Al-C系MAX相涂层的制备方法,其特征在于,所述的基体为不锈钢或钛基合金。

9.根据权利要求7所述的可调控的Ti-Al-C系MAX相涂层的制备方法,其特征在于,对所述的基体表面进行清洁后,进行等离子体辉光刻蚀处理,所述的等离子体辉光刻蚀处理的参数为:等离子流量为30-35sccm,离子源电压为1000~1200V,基体施加负偏压150-250V,刻蚀时间为20-40min。

10.根据权利要求9所述的可调控的Ti-Al-C系MAX相涂层的制备方法,其特征在于,在所述的对基体进行等离子体辉光刻蚀处理之后,在所述的基体表面溅射一层过渡层,所述的过渡层为TiAl间化合物。

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