[发明专利]基于条纹图像的晶体折射率测量方法、装置及存储介质在审
申请号: | 202111126314.2 | 申请日: | 2021-09-24 |
公开(公告)号: | CN113899697A | 公开(公告)日: | 2022-01-07 |
发明(设计)人: | 龙佳乐;杜梓浩;张建民;刘馨悦;丁毅 | 申请(专利权)人: | 五邑大学 |
主分类号: | G01N21/01 | 分类号: | G01N21/01;G01N21/45 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 叶恩华 |
地址: | 529000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 条纹 图像 晶体 折射率 测量方法 装置 存储 介质 | ||
1.基于条纹图像的晶体折射率测量方法,其特征在于,包括:
获取参考干涉图像和晶体干涉图像,所述参考干涉图像是源光束经过无放置晶体的干涉仪产生的,所述晶体干涉图像是所述源光束经过放置有所述晶体的干涉仪产生的;
对所述参考干涉图像和所述晶体干涉图像进行重心点计算,分别得到所述参考干涉图像的第一重心点坐标和所述晶体干涉图像的第二重心点坐标,并对所述第一重心点坐标和所述第二重心点坐标求差得到条纹变化量;
计算所述参考干涉图像中暗条纹的第一平均宽度像素点数和亮条纹的第二平均宽度像素点数,根据所述第一平均宽度像素点数和所述第二平均宽度像素点数得到所述参考干涉图像的条纹宽度;
根据所述条纹变化量、所述条纹宽度、所述晶体的厚度和所述源光束的波长得到所述晶体的折射率。
2.根据权利要求1所述的基于条纹图像的晶体折射率测量方法,其特征在于,在对所述参考干涉图像和所述晶体干涉图像进行重心点计算之前,还包括:
对所述参考干涉图像和所述晶体干涉图像进行图像二值化处理。
3.根据权利要求1所述的基于条纹图像的晶体折射率测量方法,其特征在于,所述重心点计算包括处理图像得到像素点的灰度值和以像素点的灰度值作为像素点的质量计算图像的重心点坐标。
4.根据权利要求3所述的基于条纹图像的晶体折射率测量方法,其特征在于,所述条纹变化量通过以下式子表示:式中,s(r)为所述条纹变化量,m为图像的像素点数量,yij表示所述参考干涉图像的第i行第j列的像素点的纵坐标,gij表示所述参考干涉图像的第i行第j列的像素点的灰度值,y0ij表示所述晶体干涉图像的第i行第j列的像素点的纵坐标,g0ij表示所述晶体干涉图像的第i行第j列的像素点的灰度值。
5.根据权利要求1所述的基于条纹图像的晶体折射率测量方法,其特征在于,所述计算所述参考干涉图像中暗条纹的第一平均宽度像素点数和亮条纹的第二平均宽度像素点数,包括:
计算所有所述暗条纹的总宽度像素点数和所述暗条纹的数量,将所有所述暗条纹的总宽度像素点数和所述暗条纹的数量相除得到所述第一平均宽度像素点数;
计算所有所述亮条纹的总宽度像素点数和所述亮条纹的数量,将所有所述亮条纹的总宽度像素点数和所述亮条纹的数量相除得到所述第二平均宽度像素点数。
6.根据权利要求1或5所述的基于条纹图像的晶体折射率测量方法,其特征在于,所述根据所述第一平均宽度像素点数和所述第二平均宽度像素点数得到所述参考干涉图像的条纹宽度,包括:
对所述第一平均宽度像素点数和所述第二平均宽度像素点数进行平均计算得到条纹宽度像素数;
将所述条纹宽度像素数与相机像素相乘,得到所述参考干涉图像的条纹宽度。
7.根据权利要求1所述的基于条纹图像的晶体折射率测量方法,其特征在于,所述晶体的折射率通过以下式子表示:式中,n为所述晶体的折射率,s(r)为所述条纹变化量,l为所述参考干涉图像的条纹宽度,λ为所述源光束的波长,D为所述晶体的厚度。
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