[发明专利]一种二维材料的晶向测试装置和方法有效
申请号: | 202111123586.7 | 申请日: | 2021-09-24 |
公开(公告)号: | CN113884471B | 公开(公告)日: | 2023-10-03 |
发明(设计)人: | 罗先刚;张仁彦;潘锐;蒲明博;李雄;靳金金;王青松 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G01N21/59 | 分类号: | G01N21/59;G01N21/01 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 张乾桢 |
地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 二维 材料 测试 装置 方法 | ||
1.一种二维材料的晶向测试装置,其特征在于,所述测试装置沿光路依次包括激发光路、位移台和收集光路;
激发光路,用于产生径向偏振光,并将径向偏振光聚焦到待测样品上;
位移台,用于放置待测样品;
收集光路,用于接收待测样品的透射光,并得到透射光斑的光强分布。
2.根据权利要求1所述二维材料的晶向测试装置,其特征在于,激发光路包括:光源、空间滤波器、渐变衰减片、扩束镜、偏振片、径向偏振片、第一物镜;
光源,用于产生光线;空间滤波器,用于滤除光源中的杂散光;渐变衰减片,用于调节入射光功率;扩束镜,用于光束扩束;偏振片,用于产生线偏振光;径向偏振片,用于产生径向偏振光;第一物镜,用于将径向偏振光聚焦到待测样品表面;
收集光路包括第二物镜和CCD;其中第二物镜,用于收集透过待测样品的光;CCD用于显示透过待测样品的光斑形状。
3.根据权利要求1所述二维材料的晶向测试装置,其特征在于,所述待测样品放置于激发光路与收集光路之间,待测样品为各向异性二维材料。
4.根据权利要求1所述二维材料的晶向测试装置,其特征在于,所述待测样品放置于透明且各向同性的基底上。
5.根据权利要求1所述二维材料的晶向测试装置,其特征在于,所述待测样品放置于扫描位移台上。
6.根据权利要求1所述二维材料的晶向测试装置,其特征在于,所述径向偏振光的波长位于所述待测样品沿不同偏振方向吸收率最大的波长范围内。
7.一种测试二维材料的晶向的方法,其特征在于,该方法包括:
放置样品:将二维待测样品置于透明且各向同性的基底上;
确定波长:通过测试待测样品的不同偏振方向入射光的吸收谱,得到所述待测样品的偏振光沿不同偏振方向吸收率最大的波长范围,在所述波长范围内选取测试时径向偏振光的波长;
将待测样品放在位移台上,通过激发光路向所述待测样品发射径向偏振光;
通过收集光路接收待测样品的透射光,得到透射光斑的光强分布,根据光斑形状确定待测样品的晶向。
8.根据权利要求7所述测试二维材料的晶向的方法,其特征在于,所述待测样品是通过机械剥离得到或CVD生长的二维材料薄膜。
9.根据权利要求7所述测试二维材料的晶向的方法,其特征在于,所述待测样品为4~12英寸样品时,利用径向偏振光对待测样品进行逐点扫描,通过获得透射光斑的扫描图像,确定样品的晶向分布。
10.根据权利要求7所述测试二维材料的晶向的方法,其特征在于,所述位移台为电动扫描位移台,能带动待测样品完成逐点扫描。
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