[发明专利]光学系统、镜头模组和电子设备有效

专利信息
申请号: 202111110374.5 申请日: 2021-09-18
公开(公告)号: CN113985569B 公开(公告)日: 2023-09-05
发明(设计)人: 党绪文;刘彬彬;李明 申请(专利权)人: 江西晶超光学有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/18
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 熊永强
地址: 330096 江西省南昌市*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学系统 镜头 模组 电子设备
【说明书】:

一种光学系统、镜头模组和电子设备,光学系统沿光轴由物侧至像侧依次包含:具有屈折力的第一透镜至第五透镜,且第一透镜和第四透镜具有正屈折力。第一透镜和第五透镜的物侧面于近光轴处均为凸面;第一透镜和第五透镜的物侧面、第一透镜、第三透镜和第四透镜的像侧面于近圆周处均为凸面;第一透镜和第五透镜的像侧面于近光轴处均为凹面;第二透镜、第三透镜、第四透镜和第五透镜的物侧面于近圆周处均为凹面。通过对光学系统各透镜的面型和屈折力进行合理设计,有利于满足具有较小的光学总长、大光圈和大尺寸像面的特点。

技术领域

发明属于光学成像技术领域,尤其涉及一种光学系统、镜头模组和电子设备。

背景技术

TOF(Time of flight,飞行时间)技术具有响应速度快、不易受环境光线干扰和深度信息精度高等优点。随着TOF技术的发展,在捕捉更多环境信息的同时,能更便捷的应用于各种场景,成为该领域的一个研究趋势。为顺应这一发展趋势,需要提升光学系统的紧凑性,扩大光圈,压缩光学总长并获得大像面,以满足深度探测、手势识别和环境检测等需求。

发明内容

本发明的目的是提供一种光学系统、镜头模组和电子设备,具有较小的光学总长、大光圈和大尺寸像面的特点。

为实现本发明的目的,本发明提供了如下的技术方案:

第一方面,本发明提供了一种光学系统,沿着光轴由物侧至像侧依次包含:第一透镜,具有正屈折力,所述第一透镜的像侧面于近光轴处为凹面;第二透镜,具有屈折力;第三透镜,具有屈折力;第四透镜,具有正屈折力,所述第四透镜的像侧面于近圆周处为凹面;第五透镜,具有屈折力,所述第五透镜的物侧面于近光轴处为凸面,所述第五透镜的像侧面于近圆周处为凸面,所述光学系统满足关系式:1.8<Fno*TTL/IMGH<2.4;其中,TTL为所述第一透镜的物侧面至成像面于光轴上的距离,IMGH为所述光学系统最大有效成像圆的半径,Fno为所述光学系统的光圈数。

在所述的光学系统中,通过使第一透镜具有正屈折力,有助于缩短光学系统的光学总长,压缩各视场的光线走向,降低球差,满足光学系统高像质小型化的需求。通过使第一透镜的像侧面于近光轴附近为凹面,有利于增强第一透镜的正屈折力,进一步为边缘光线的引入提供合理的光线入射角。通过使第四透镜具有正屈折力,有利于会聚内视场光线,收缩外视场光束口径。通过使第四透镜物侧面于圆周附近为凹面,有利于增强第四透镜屈折力,提升镜片间的紧凑性,合理约束像侧面曲率半径,可降低公差敏感性和杂散光风险。通过使第五透镜物侧面于光轴附近为凸面,有利于校正畸变、像散、场曲量,进而满足低像差高像质需求;使第五透镜像侧面于近圆周处为凸面,能够使得光线在像面上的入射角保持在合理范围,满足高相对亮度和小芯片匹配角需求。TTL/IMGH反映了光学系统的轻薄特性,Fno反映了光学系统的相对进光量,该关系式总体反映了光学系统在轻薄化过程中对进光量的变化情况,即当光学系统轻薄化的过程中,光圈数上升,光学系统的进光量减少。通过使光学系统满足上述关系式,可以在进光量充足的情况下,实现光学系统在光轴上长度的最小化,提升光学系统的紧凑性,同时,还可以使光学系统具有大像面,以匹配高像素的感光芯片,提升图像分辨率。低于关系式下限,光学系统的总长过小,易导致系统过于紧凑,设计难度大且工艺性差;超过关系式上限,光学系统的超薄特性较差,光圈数较大,不足以满足大像面、小尺寸、小光圈数的需求。因此,满足上述面型及关系式,能实现光学系统在较小的光学总长下具有大光圈和大尺寸像面的特点。

一种实施方式中,所述光学系统满足关系式:1.0<f/EPD<1.4;其中,f为所述光学系统的有效焦距,EPD的所述光学系统的入瞳直径。f/EPD反映了光学系统的相对进光量,红外感光芯片的感光能力低于可见光感光芯片。通过使光学系统满足上述关系式,可使光学系统的相对进光量获得良好的控制,满足小光圈数和匹配红外芯片的需求。低于关系式下限,光学系统的有效焦距变化不大,扩大光学系统的入瞳直径,将导致进光量变大,但5片式的光学系统难以在全视场维持良好的性能,易使镜片面型发生过度弯曲,不利于实际生产;超过关系式上限,光学系统的进光量小,不能满足光学系统对进光量的需求。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江西晶超光学有限公司,未经江西晶超光学有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111110374.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top