[发明专利]雾化芯、雾化器、气溶胶发生装置及雾化芯制备方法

权利要求书

1.一种雾化芯，其特征在于，包括：

多孔基底，至少部分外表面形成有用于供气溶胶形成基质加热雾化的雾化面，所述多孔基底内部具有吸附、存储气溶胶形成基质的微孔结构，所述多孔基底吸附、存储的气溶胶形成基质可经由所述微孔结构传输至所述雾化面；

过渡层，覆设于至少部分所述雾化面上；

发热层，用于在通电后加热并雾化气溶胶形成基质，所述发热层结合于所述过渡层背离所述多孔基底的一面上，所述发热层为镍铬合金层；以及

保护层，覆设于所述发热层背离所述过渡层的一面上。

2.如权利要求1所述的雾化芯，其特征在于，所述雾化芯还包括用于电性连接所述发热层与电源装置的两个电极，所述电极通过厚膜沉积工艺形成于所述雾化面上，所述电极为金层、银层、铂层、钯层、铝层、铜层、金银合金层、银铂合金层、银钯合金层中的至少一种。

3.如权利要求1所述的雾化芯，其特征在于，所述保护层为氧化铝层、氧化硅层、氮化铝层、氮化硅层、氧化钛层、氮化钛层中的至少一种。

4.如权利要求1所述的雾化芯，其特征在于，所述保护层的厚度为0.5～3μm。

5.如权利要求1所述的雾化芯，其特征在于，所述发热层的厚度为1～5μm。

6.如权利要求1所述的雾化芯，其特征在于，所述过渡层为氮化铝层、氮化硅层、氮化铬层、碳化铬层中的至少一种。

7.如权利要求1至6任一项所述的雾化芯，其特征在于，所述过渡层的厚度为0.1～1μm。

8.如权利要求2所述的雾化芯，其特征在于，所述电极成对并间隔布置于所述雾化面上的第一区域，所述过渡层覆设于所述雾化面上的第二区域，所述第二区域为所述雾化面上于所述第一区域之外的区域，以使所述第一区域与所述第二区域在所述雾化面上为连续区域，所述电极的厚度大于所述发热层厚度与所述过渡层厚度之和。

9.如权利要求8所述的雾化芯，其特征在于，两个所述电极之间形成凹槽，由所述凹槽的内底面自下往上依次层叠设置有所述过渡层、所述发热层的发热部和所述保护层，且所述电极的厚度大于所述过渡层、所述发热部和所述保护层的厚度之和。

10.如权利要求8所述的雾化芯，其特征在于，所述发热层包括形成于所述第二区域的发热部、形成于其中一个所述电极至少部分表面的第一连接部，形成于另一个所述电极至少部分表面的第二连接部，所述第一连接部、所述第二连接部分别与所述发热部连接。

11.如权利要求10所述的雾化芯，其特征在于，所述第一连接部包括形成于其中一个所述电极背离所述多孔基底的一面上的第一结合部，所述第二连接部包括形成于另一个所述电极背离所述多孔基底的一面上的第二结合部，所述第一结合部的对应侧边与所述发热部的对应侧边相连，所述第二结合部的对应侧边与所述发热部的对应侧边相连。

12.如权利要求2所述的雾化芯，其特征在于，所述电极的厚度为20～60μm。

13.一种雾化器，其特征在于，包括如权利要求1至12任一项所述的雾化芯。

14.一种气溶胶发生装置，其特征在于，包括如权利要求1至12任一项所述的雾化芯或如权利要求13所述的雾化器。

15.一种雾化芯制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

沉积过渡层：通过薄膜沉积工艺，在多孔基底的至少部分雾化面上沉积形成过渡层；

沉积发热层：通过薄膜沉积工艺，在所述过渡层背离所述多孔基底的一面上沉积形成发热层，所述发热层为镍铬合金层；

沉积保护层：通过薄膜沉积工艺，在所述发热层背离所述过渡层的一面上沉积形成保护层。