[发明专利]一种高精度的光照强度测量方法及装置在审
| 申请号： | 202111109002.0 | 申请日： | 2021-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN113670436A | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 李征;赵一帆 | 申请（专利权）人： | 陕西中天盛隆智能科技有限公司 |
| 主分类号： | G01J1/00 | 分类号： | G01J1/00 |
| 代理公司： | 西安鼎迈知识产权代理事务所(普通合伙) 61263 | 代理人： | 刘喜保 |
| 地址： | 710000 陕西省西安市国家民用航天产业基*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高精度 光照强度 测量方法 装置 | ||
1.一种高精度的光照强度测量方法，其特征在于，包括：
测量六个相互垂直的测量平面上的光照强度；
根据每个所述测量平面上的光照强度确定总光照强度。
2.根据权利要求1所述的一种高精度的光照强度测量方法，其特征在于，还包括：
根据所述总光照强度确定相应的提醒信息。
3.应用权利要求1-2任一项所述的一种高精度的光照强度测量方法的装置，其特征在于，包括：测量体(100)、光照强度测量单元(200)和处理单元(300)；
所述测量体(100)上具有六个相互垂直的测量平面，每个所述测量平面上均至少设置有一个所述光照强度测量单元(200)；
所述光照强度测量单元(200)用于测量对应所述测量平面上的光照强度；
所述处理单元(300)用于根据每个所述测量平面上的光照强度确定总光照强度。
4.根据权利要求3所述的一种高精度的光照强度测量装置，其特征在于，所述测量体(100)为空心结构，所述处理单元(300)设置在所述测量体(100)内部。
5.根据权利要求3所述的一种高精度的光照强度测量装置，其特征在于，所述测量体(100)的外侧面上设置有显示单元(400)，所述显示单元(400)用于显示所述处理单元(300)确定的总光照强度。
6.根据权利要求3所述的一种高精度的光照强度测量装置，其特征在于，所述测量体(100)为正多面体，所述正多面体的每个外侧面均为所述测量平面，每个所述测量平面上均设置有一个所述光照强度测量单元(200)。
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