[发明专利]用于重力IV装置的压力致动单向流量控制设备

说明书

本发明公开一种流量控制设备，其包括壳体，该壳体具有主要入口、辅助入口以及设置在主要入口和辅助入口下游的出口。流量控制设备进一步包括由壳体的内周向表面限定的腔室。该腔室将主要入口和辅助入口与出口流体连接。阀构件安装在腔室中，当进入辅助入口的流体压力高于进入主要入口的流体压力时，该阀构件通过辅助入口中的流体压力朝向主要入口枢转并且阻断该主要入口。

技术领域

本发明总体上涉及流量控制设备，并且更具体地说，涉及具有阀构件的流量控制设备，该阀构件能够防止带有辅助管路的IV(静脉注射)装置中的输液不足，以及防止药剂从辅助管路回流到主要管路中。

背景技术

输液IV装置通常用于输液疗法，以便将药物从预填充的容器(例如，含有所需药物的IV瓶或袋)输送给患者。通常，IV管件连接到导管，并且插入到待治疗的局部区域。在一些情况下，需要以潜在的不同剂量向患者输送多种药物，从而造成需要具有多个分支的管件或流体管路的IV延长装置，通过该IV延长装置可以将多种药物分配给患者。

通常给患者注射IV溶液，该IV溶液最初被提供在IV瓶或袋中，并且通过IV管路滴入到患者的静脉中。流量控制设备(例如，止回阀)通常也包括在IV管路中，以准许流体仅沿着患者的方向流动。这确保了药物向下游流向患者，而不是向上游流向IV瓶或袋。

在用IV装置输液期间，辅助药剂供给可能潜在地向后流入到主要IV管路中，导致辅助药剂的输液不足。尽管止回阀可能定位在主要管路中以防止回流，但是止回阀易于频繁失效。止回阀失效的常见原因是由于输液中存在碎屑。此外，由于空气进入辅助管路，从而造成一些辅助药剂保留在辅助管路中(未输送的药物)，因此经常发生输液不足。进入IV管路的空气可能具有不良影响，比如给患者造成空气栓塞。

背景部分中提供的描述不应仅仅因为在背景部分中被提及或与背景部分相关联而被视为是现有技术。背景部分可以包括描述主题技术的一个或更多个方面的信息。

发明内容

根据本公开的各种实施例，流量控制设备可以包括壳体，该壳体具有主要入口、辅助入口以及设置在主要入口和辅助入口的下游的出口。腔室可以由壳体的内周向表面限定。该腔室可以将主要入口和辅助入口与出口流体连接。流量控制设备可以进一步包括安装在腔室中的阀构件，以在进入辅助入口的流体压力高于进入主要入口的流体压力时，所述阀构件通过辅助入口中的流体压力朝向主要入口枢转并且阻断主要入口。

根据本公开的各种实施例，流量控制设备可以包括壳体，该壳体具有限定腔室的内周向表面。壳体可以包括被配置成接收主要流体管路的主要入口、被配置成接收辅助流体管路的辅助入口以及设置在主要入口和辅助入口下游的出口。流量控制设备可以进一步包括安装在内周向表面上的阀构件。阀构件可以包括具有第一端和第二端的杠杆、杠杆在其上支撑并且枢转的支点、设置在第一端与主要入口相对应的位置处的主要管路密封构件、以及设置在第二端与辅助入口相对应的位置处的辅助管路密封构件。

应当理解，从以下详细描述中，本主题技术的其他配置对于本领域中的技术人员来说将容易变得显而易见，其中本主题技术的各种配置是通过说明的方式显示和描述的。如将认识到的，主题技术能够有其他的和不同的配置，并且其若干细节能够在各种其他方面进行修改，所有这些都不脱离主题技术的范围。因此，附图和详细描述在本质上应被认为是说明性的，而不是限制性的。

附图说明

以下附图被包括来说明实施例的某些方面，并且不应被视为排他性实施例。如本领域中的技术人员和受益于本公开的人员将想到的，所公开的主题能够在形式和功能上进行相当大的修改、变更、组合和等同物。

图1示出了根据本公开的一些实施例的包括流量控制设备的IV延长装置。

图2A示出了根据本公开的一些实施例的图1的流量控制设备的透视图。

图2B示出了根据本公开的一些实施例的图2A的流量控制设备和阀构件的放大视图。