[发明专利]一种光学元件离子束抛光加工装置

权利要求书

1.一种光学元件离子束抛光加工装置，其特征在于：包括支撑底座(1)，设于支撑底座(1)上用于提供真空环境的真空室(2)，设于真空室(2)内的主机平台(3)，设于主机平台(3)上的支撑板(4)，设于支撑板(4)上用于夹取待抛光光学工件(5)的光学工件夹具(6)，以及设于主机平台(3)上的用于提供可移动离子束的运动机构；

运动机构包括设于主机平台(3)上的水平运动机构(7)、设于水平运动机构(7)上的竖直移动机构(9)、以及设于竖直移动机构(9)上用于放置离子源(8)的三轴并联机构。

2.根据权利要求1所述的一种光学元件离子束抛光加工装置，其特征在于：水平运动机构包括设于主机平台(3)上的滑台底座(10)，设于滑台底座(10)上的滑台丝杠(11)，滑动套装于滑台丝杠(11)外的第一套筒(12)，以及设于第一套筒(12)上的滑台(13)。

3.根据权利要求2所述的一种光学元件离子束抛光加工装置，其特征在于：滑台底座(10)顶面开设上的安装槽(14)，滑台丝杠(11)设于安装槽(14)内；滑台底座(10)顶面开设有关于滑台丝杠(11)对称分布的两个滑台导轨(17)，每个滑台导轨(17)内滑动嵌装有与滑台(13)相连的滑台导轨滑块(18)。

4.根据权利要求3所述的一种光学元件离子束抛光加工装置，其特征在于：滑台丝杠(11)一端连接有驱动滑台丝杠(11)转动的第一正反转伺服电机(15)，另一端设于滑台丝杠座(16)内。

5.根据权利要求2所述的一种光学元件离子束抛光加工装置，其特征在于：竖直移动机构(9)包括设于滑台(13)上的立柱(19)，设于立柱(19)上的固定座(20)，套装于固定座(20)内的立柱丝杠(21)，滑动套装于立柱丝杠(21)外的第二套筒(22)，以及设于第二套筒(22)上的立柱滑板(37)。

6.根据权利要求5所述的一种光学元件离子束抛光加工装置，其特征在于：立柱丝杠(21)一端连接有驱动立柱丝杠(21)转动的第二正反转伺服电机(25)，另一端设于立柱丝杠座(26)内，滑台丝杠座(26)固定于立柱(19)上。

7.根据权利要求5所述的一种光学元件离子束抛光加工装置，其特征在于：三轴并联机构包括设于立柱滑板(37)上的定平台(23)和与定平台(23)相连用于安装离子源(8)的动平台(24)，定平台(23)与动平台(24)之间均布设有三个电动缸(27)，每个电动缸(27)两端分别通过球铰链(28)与定平台(23)和动平台(24)铰接相连。

8.根据权利要求5所述的一种光学元件离子束抛光加工装置，其特征在于：立柱(19)侧壁开设有关于立柱丝杠(21)对称分布的两个立柱导轨(35)，每个立柱导轨(35)内滑动嵌装有与立柱滑板(37)相连的立柱导轨滑块(36)；滑台(13)与立柱(19)之间设有用于紧固二者的加强板(29)。

9.根据权利要求1所述的一种光学元件离子束抛光加工装置，其特征在于：光学工件夹具单元(6)包括竖直固定于支撑板(4)上的卡盘(30)和若干个均布设于卡盘(30)上用于夹持待抛光光学工件(5)的夹具，夹具有三个，相邻夹具之间的角度为120°；

卡盘(30)上设有若干个螺纹孔，支撑板(4)上设有若干个与螺纹孔相适配的螺纹盲孔，卡盘(30)与支撑板(4)之间通过螺栓连接；

夹具包括螺纹杆(31)和套装于螺纹杆(31)上的夹块(32)，卡盘(30)上开设有用于螺纹杆(31)和夹块(32)安装的嵌装槽(33)，嵌装槽(33)与夹具一一对应。

10.根据权利要求1所述的一种光学元件离子束抛光加工装置，其特征在于：支撑底座(1)底部设有若干个用于调平及增强承压稳定性的垫铁(34)。