[发明专利]一种基于初级自由基计算紫外高级氧化工艺氧化剂最佳投加浓度的方法在审
| 申请号： | 202111041231.3 | 申请日： | 2021-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN113779504A | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 孙佩哲;孟坛;陈曦 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | G06F17/18 | 分类号： | G06F17/18;C02F1/32;C02F1/72;G01N21/33 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 初级 自由基 计算 紫外 高级 氧化 工艺 氧化剂 最佳 浓度 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于初级自由基计算紫外高级氧化工艺氧化剂最佳投加浓度的方法，主要包括：一个用于计算紫外高级氧化工艺氧化剂最佳投加浓度的简单公式：
1)首先以只产生·OH作为单一PRS的UV/H2O2为例，基于初级自由基推导得到一个计算UV/H2O2理论最佳氧化剂投加浓度的简单公式：
2)将基于[·OH]ss推导得到的简单公式推广应用到其他产生多种PRS的UV-basedAOPs，包括UV/FAC、UV/PDS、UV/NH2Cl和UV/PAA。
2.根据权利要求1所述的一种用于计算紫外高级氧化工艺氧化剂最佳投加浓度的简单公式，其特征主要在于：
1)本发明推导得到的公式可以快速准确的测得紫外高级氧化工艺的理论氧化剂最佳投加浓度，为紫外高级氧化在水处理方面的应用提供理论指导；
2)使本发明推导得到的计算理论氧化剂最佳投加浓度的简单公式可以推广应用到其他新提出的基于紫外的高级氧化工艺(如UV/过氧甲酸、UV/NO2-、UV/PMS等)，为其在工程上的能耗提供了一种简单的评估方法；
3)本发明推导得到计算理论氧化剂最佳投加浓度的简单公式为基于紫外的高级氧化工艺的对比提供了一个简单方法。
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