[发明专利]一种高压静电场和赤霉素综合处理水稻种子的方法在审

专利信息
申请号: 202111035441.1 申请日: 2021-09-03
公开(公告)号: CN113661802A 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 王冉冉;陈万响;刘双喜;刘印增;王金星;胡安瑞;郝心诚;李自豪;李丛毅;牟景莹;刘奇;刘瀚晖;卞伟 申请(专利权)人: 山东农业大学
主分类号: A01C1/00 分类号: A01C1/00
代理公司: 唐山科轩专利代理事务所(特殊普通合伙) 13146 代理人: 孔娟
地址: 271018 *** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 高压 静电场 赤霉素 综合 处理 水稻 种子 方法
【权利要求书】:

1.一种高压静电场和赤霉素综合处理水稻种子的方法,其特征在于,包含如下步骤:

(1)预选:将物理筛选后的水稻种子置于温度为18℃~21℃的通风处摊薄铺开晾晒24h,期间每间隔2.5h~3.5h翻动一次,直至将水稻种子表面晒干,然后放置于干燥阴凉处凉透;

(2)浸泡:将晒干后的水稻种子浸入水中浸泡3min,期间充分搅拌,捞取掉漂浮在水面上的不饱满的种子;

(3)赤霉素溶液处理水稻种子:将浸泡后的水稻种子放置于25℃~30℃的恒温培养箱中,用浓度为30mg/L~70mg/L的赤霉素溶液浸泡其24h,之后采用去离子水反复冲洗,直至洗净种子外残留的赤霉素液;

(4)将洗净的水稻种子捞出,沥干水分,放入湿润砂床中保持湿度;

(5)高压静电场处理水稻种子:将砂床中的水稻种子放入电压为10~50kv,板间距为10cm的静电场中,处理时间为3min~20min;

(6)将高压静电场处理后的水稻种子放入25℃培养箱中,每隔24h加一次水,第三天开始统计长成正常幼苗的个数。

2.根据权利要求1所述的一种高压静电场和赤霉素综合处理水稻种子的方法,其特征在于,所述赤霉素溶液的浓度为40mg/L。

3.根据权利要求1所述的一种高压静电场和赤霉素综合处理水稻种子的方法,其特征在于,所述高压静电场处理时电压为40kv。

4.根据权利要求3所述的一种高压静电场和赤霉素综合处理水稻种子的方法,其特征在于,所述高压静电场处理时间为8min。

5.根据权利要求1所述的一种高压静电场和赤霉素综合处理水稻种子的方法,其特征在于,所述高压静电场处理时,采用平板电极作下极板,锯齿形电极作上极板。

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