[发明专利]涂敷头在审

专利信息
申请号: 202111030509.7 申请日: 2021-09-03
公开(公告)号: CN115069487A 公开(公告)日: 2022-09-20
发明(设计)人: 田代裕树;森岛秀明;高塚大典 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: B05C5/02 分类号: B05C5/02
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 涂敷头
【说明书】:

发明的实施方式涉及涂敷头。本发明将要解决的课题在于提供在宽度方向上均匀地分配涂液且在排出口及其附近抑制头主体的变形的涂敷头。根据实施方式,涂敷头具备头主体、第一歧管、第一狭缝、第二歧管以及第二狭缝。在头主体的内部中,第一狭缝相对于第一歧管在前方侧邻接地形成,第二歧管相对于第一狭缝在前方侧邻接地形成。第二狭缝相对于第二歧管在前方侧邻接地形成,形成从第二歧管向外部排出涂液的排出口。第二狭缝的沿着与前后方向交叉的高度方向的尺寸大于第一狭缝的沿着高度方向的尺寸。

技术领域

本发明的实施方式涉及涂敷头。

背景技术

在形成在基材的表面涂覆有涂液的涂敷体时,使用了狭缝模具(slot die)等涂敷头。在这种涂敷头中,歧管形成于头主体的内部,狭缝相对于歧管在涂敷头的前方侧邻接地形成。而且,狭缝形成从歧管朝向前方侧向外部排出涂液的排出口。在形成涂敷体的过程中,从狭缝排出的涂液涂覆于基材的表面。

在前述那样的涂敷头中,要求在与前后方向交叉(正交或者大致正交)的宽度方向上均匀地分配涂液,且与宽度方向上的位置无关地使涂液从排出口的排出量变得均匀。另外,要求在涂液的排出口及其附近抑制头主体的变形。

发明内容

本发明将要解决的课题在于提供一种在宽度方向上均匀地分配涂液、且在排出口及其附近抑制头主体的变形的涂敷头。

根据实施方式,涂敷头具备头主体、第一歧管、第一狭缝、第二歧管以及第二狭缝。第一歧管形成于头主体的内部,第一狭缝在头主体的内部相对于第一歧管在前方侧邻接地形成。第二歧管在头主体的内部相对于第一狭缝在前方侧邻接地形成,涂液从第一歧管通过第一狭缝流入第二歧管。第二狭缝在头主体中相对于第二歧管在前方侧邻接地形成,形成从第二歧管朝向前方侧向外部排出涂液的排出口。第二狭缝的沿着与前后方向交叉的高度方向的尺寸大于第一狭缝的沿着高度方向的尺寸。

根据上述涂敷头,在宽度方向上均匀地分配涂液,且在排出口及其附近抑制头主体的变形。

附图说明

图1是概略地表示第一实施方式的涂敷头的立体图。

图2是以将两个块以及垫片板相对于彼此分离的状态概略地表示第一实施方式的涂敷头的立体图。

图3是以从两个块的一方以及垫片板分离两个块的另一方的状态概略地表示第一实施方式的涂敷头的立体图。

图4是以局部剖面概略地表示第一实施方式的涂敷头的两个块的一方以及垫片板的立体图。

图5是概略地表示某一变形例的涂敷头的两个块的一方以及垫片板的立体图。

具体实施方式

以下,参照附图对实施方式进行说明。

(第一实施方式)

图1至图3示出第一实施方式所示的涂敷头1。在本实施方式中,涂敷头1例如是狭缝模具。如图1至图3所示,涂敷头1具备头主体2,头主体2具备两个块5、6。另外,涂敷头1具备垫片板7。块5、6以及垫片板7的各个例如由金属形成。在图2中,将块(第一块)5、块(第二块)6以及垫片板7以相对于彼此分离的状态表示。另外,在图3中,将块6以与块5以及垫片板7分离的状态表示。

在涂敷头1中,规定了前后方向(箭头X1以及箭头X2所示的方向)、与前后方向交叉(正交或者大致正交)的宽度方向(箭头Y1以及箭头Y2所示的方向)以及与前后方向以及宽度方向这两方交叉(正交或者大致正交)的高度方向(箭头Z1以及箭头Z2所示的方向)。在涂敷头1(头主体2)中,沿着宽度方向的尺寸大于沿着前后方向的尺寸以及沿着高度方向的尺寸的每一个。另外,图4示出块5以及垫片板7的一部分,在图4的一部分中,示出以与涂敷头1的宽度方向正交或者大致正交的剖切面剖切块5以及垫片板7的剖面。

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