[发明专利]一种双激光大幅面激光刻划设备

权利要求书

1.一种双激光大幅面激光刻划设备，其特征在于：包括底座、横梁、刻划治具、激光器、光路组件以及刻划组件，所述刻划治具和刻划组件分别通过Y轴驱动结构和X轴驱动结构在底座和横梁上活动设置，所述刻划治具为大屏面支撑治具；所述激光器为两种不同光源的激光器，所述光路组件和刻划组件均对应激光器设置有两组。

2.根据权利要求1所述一种双激光大幅面激光刻划设备，其特征在于：所述横梁横跨在底座上，两组激光器和光路组件分别设置在横梁的左、右两个侧边，两组刻划组件均通过X轴驱动结构在横梁的前侧边上滑动设置，所述刻划治具通过Y轴驱动结构在横梁底部的底座上滑动设置。

3.根据权利要求2所述一种双激光大幅面激光刻划设备，其特征在于：所述光路组件包括入射口、调光组件和出射口，所述调光组件包括反射镜、光闸和扩束镜，所述反射镜、光闸和扩束镜依次设置在入射口和出射口之间。

4.根据权利要求3所述一种双激光大幅面激光刻划设备，其特征在于：所述光路组件上还设置有光路载板，所述调光组件设置在光路载板上，所述反射镜包括设置在入射口处的入射角度调节件和设置在出射口处的出射角度调节件，所述入射角度调节件通过入射安装块固定在光路载板上，所述出射角度调节件通过出射安装块固定在光路载板上；所述光路载板的周围还设置有密封板，所述密封板与光路载板形成密封空间，所述密封板之间的连接处还设置有密封胶条。

5.根据权利要求4所述一种双激光大幅面激光刻划设备，其特征在于：所述入射角度调节块包括设置在激光器上的入射孔、设置在激光器对面的下倾斜角调节块以及设置在下倾斜角调节块下方的上倾斜角调节块，所述下倾斜角调节块的角度向下倾斜，用于将激光束反射至上倾斜角调节块，所述上倾斜角调节块的角度向上倾斜，用于将激光束反射至调光组件；所述出射角度调节块包括设置在刻划组件上的出射孔和设置在光路载板的拐角处的出射角调节块，所述出射角调节块用于将扩束镜投射的光束反射至出射孔。

6.根据权利要求2所述一种双激光大幅面激光刻划设备，其特征在于：所述刻划组件包括刻划安装板、反射镜座和激光刻划头，所述反射镜座固定设置在刻划安装板的顶部，所述激光刻划头设置在反射镜座的底部，且通过Z轴驱动结构在刻划安装板上滑动设置。

7.根据权利要求6所述一种双激光大幅面激光刻划设备，其特征在于：所述Z轴驱动装置包括丝杆驱动组件、滑动轨道以及滑动安装板，所述滑动安装板通过丝杆驱动组件和滑动轨道在刻划安装板上滑动设置；所述激光刻划头通过滑动调节块设置在滑动安装板上，所述滑动调节块上设置有螺孔和滑道，所述激光刻划头上还设置有调节安装孔和调节螺钉，所述调节滑块和滑道用于激光刻划头在滑动安装块上的限位滑动，所述调节安装孔和调节螺钉用于激光刻划在滑动调节上的固定。

8.根据权利要求2所述一种双激光大幅面激光刻划设备，其特征在于：所述X轴驱动结构包括X轴直线电机、光栅尺、读数头以及X轴轨道，所述激光刻划组件固定在X轴直线电机和X轴轨道上，且通过X轴直线电机和X轴轨道在横梁上滑动设置。

9.根据权利要求2所述一种双激光大幅面激光刻划设备，其特征在于：所述刻划治具包括支撑板和真空吸附件，所述支撑板的侧边还设置有限位边，所述限位边用于限定加工材料的位置，所述支撑板上还设置有真空吸附孔，所述真空吸附孔与真空吸附件连接；所述Y轴驱动结构包括Y轴直线电机、Y轴光栅尺、Y轴读数头以及Y轴轨道，所述支撑板和真空吸附件设置在Y轴电机上。

10.根据权利要求1所述一种双激光大幅面激光刻划设备，其特征在于：所述刻划组件的底部还设置有吸尘装置，所述吸尘装置包括设置在刻划组件底部的吸尘框架和吸尘模块，所述吸尘框架和吸尘模块通过吸尘管道连接，所述吸尘框架的底部侧边还设置有缓冲块，所述底座和横梁的外侧还设置有壳体，所述吸尘模块设置在壳体外侧。