[发明专利]一种光学防伪元件、其加工方法以及光学防伪产品

权利要求书

1.一种光学防伪元件，其特征在于，包括：防伪元件本体，所述防伪元件本体上形成有工作区，所述工作区用于反射光线，所述工作区包括若干反射区，每一反射区上分别形成有若干层结构层，每一反射区上分别形成有法布里-珀罗谐振腔，每一所述反射区的反射光线的性能不同。

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述防伪元件本体包括基材，所述结构层对应层叠设置于所述基材上。

3.根据权利要求2所述的光学防伪元件，其特征在于，所述基材的表面分别对应反射区形成有密集设置的微结构。

4.根据权利要求3所述的光学防伪元件，其特征在于，不同的所述反射区的对应的所述微结构相同或不相同。

5.根据权利要求1至4任一项所述的光学防伪元件，其特征在于，不同的所述反射区的结构层的数量相同或不相同。

6.根据权利要求1至4任一项所述的光学防伪元件，其特征在于，靠近所述基材的所述结构层的材质包括：氟化镁、二氧化硅、氧化铝、氧化镁、二氧化钛、氧化钆、硫化锌或其混合物。

7.根据权利要求1至4任一项所述的光学防伪元件，其特征在于，所述结构层的材质包括：金、银、铜、铝、铁、锡、镍、铬或其化合物以及上述物质的混合物。

8.一种光学防伪元件的加工方法，其特征在于，用于加工如权利要求1至7任一项所述的光学防伪元件，包括以下步骤：提供一基材，在基材上的若干区域分别镀上若干层结构层形成若干反射区，使得每一所述反射区上的结构层形成法布里-珀罗谐振腔，使得每一反射区具备不同的光线反射性能。

9.根据权利要求8所述的光学防伪元件的加工方法，其特征在于，通过控制所述结构层的厚度以及材质配比实现控制所述反射区的光线反射性能。

10.一种光学防伪产品，其特征在于，包括：如上述权利要求1至7任一项所述的光学防伪元件和防伪装置主体，所述防伪装置主体与所述光学防伪元件相对应设置，所述防伪装置主体上包括：发光元件和光感元件，所述发光元件用于发射光信号，所述发光元件发射的光信号经过所述光学防伪元件反射后到达所述光感元件处，所述光感元件用于将光信号转化为电信号。