[发明专利]一种低温辐射计吸收腔

权利要求书

1.一种低温辐射计吸收腔，其特征在于，包括：离轴椭球面光阑1、斜口-斜底圆柱腔2、斜底面3；所述离轴椭球面光阑1采用在离轴椭球面开圆孔制作形成；所述斜口-斜底圆柱腔2采用圆柱腔线切割制作形成，斜口-斜底圆柱腔2一端为斜口，另一端为斜底；斜底面3为椭圆形；离轴椭球面光阑1的切面与斜口-斜底圆柱腔2的斜口端面重合并连接，斜底面3与斜口-斜底圆柱腔2的斜底端面重合并连接。

2.如权利要求1所述的低温辐射计吸收腔，其特征在于，所述离轴椭球面光阑1的切面长轴长度l₁为短轴长度l₂的二倍，圆孔孔径中心轴与圆柱的轴线重合，圆孔直径长度d为切面短轴长度l₂的一半。

3.如权利要求2所述的低温辐射计吸收腔，其特征在于，所述斜口-斜底圆柱腔2的圆柱腔内径长度l₃等于离轴椭球面光阑1切面短轴长度l₂。

4.如权利要求3所述的低温辐射计吸收腔，其特征在于，所述离轴椭球面离轴量为α，斜口所在平面与圆柱腔的轴线之间夹角为α，斜底所在平面与圆柱腔的轴线之间夹角为β，斜底面3为椭圆面与圆柱腔的轴线之间夹角为β，满足α+β＝90°。

5.如权利要求4所述的低温辐射计吸收腔，其特征在于，所述斜底面3的短轴长度l₄等于圆柱腔内径长度l₃，长轴长度为l₅，满足l₅＝l₄/sinβ。

6.如权利要求5所述的低温辐射计吸收腔，其特征在于，所述离轴椭球面光阑1、斜口-斜底圆柱腔2和斜底面3均采用电解铜制作。

7.如权利要求5所述的低温辐射计吸收腔，其特征在于，所述离轴椭球面光阑1、斜口-斜底圆柱腔2和斜底面3的内表面均涂装碳纳米管阵列涂层。

8.如权利要求5所述的低温辐射计吸收腔，其特征在于，所述离轴椭球面光阑1、圆柱腔斜口、圆柱腔斜底和斜底面3外圈均设计加工椭圆环状法兰，环状法兰宽度为h，采用扩散焊方式实现离轴椭球面光阑与圆柱腔斜口之间、圆柱腔斜底与斜底面之间分别连接。

9.如权利要求5所述的低温辐射计吸收腔，其特征在于，α＝30°，β＝60°，l₁为20mm，l₂为10mm，l₃为10mm，l₄为10mm，l₅为14.14mm。

10.如权利要求1-9中任一项所述的低温辐射计吸收腔在光学计量技术领域中的应用。