[发明专利]形状记忆型防漏堵漏体系及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202110991069.5 申请日: 2021-08-26
公开(公告)号: CN113652212B 公开(公告)日: 2022-10-28
发明(设计)人: 蒋官澄;崔凯潇;彭春耀;贺垠博;杨丽丽;骆小虎;罗绪武;梁兴;谭宾;王勇;付大其;耿铁;冉启发;刘小波;程荣超;刘书杰;董腾飞;史赫 申请(专利权)人: 中国石油大学(北京)
主分类号: C09K8/035 分类号: C09K8/035;C09K8/24;C09K8/42;C09K8/467;C08G59/50;E21B33/13
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 刘淼;刘依云
地址: 102249*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 形状 记忆 防漏 堵漏 体系 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种记忆型堵漏剂组合物,其特征在于,该组合物含有环氧树脂、胺类固化剂、活性稀释剂和发泡剂;

其中,所述环氧树脂、胺类固化剂、活性稀释剂和发泡剂的重量比为100:10-20:8-12:50-55;

所述活性稀释剂为式(1)所示的化合物:

式(1)

R1为H、卤素或C1-C4的烷基;L为C0-C4的亚烷基;R2为C1-C6的烷基、C1-C6的烷氧基或C1-C6的烷硫基;

所述胺类固化剂为双(4-氨基环己基)甲烷、二氨基二苯甲烷和双氰胺中的一种或多种;

所述发泡剂为空心玻璃球。

2.根据权利要求1所述的组合物,其中,R1为H、F、Cl、Br、甲基、乙基或正丙基;L为不存在、-CH2-、-CH2CH2-或-CH2CH2CH2-,R2为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、正己基、甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、异丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、正己氧基、甲硫基、乙硫基、正丙硫基、异丙硫基、正丁硫基、异丁硫基、叔丁硫基、正戊硫基或正己硫基。

3.根据权利要求1所述的组合物,其中,所述活性稀释剂选择以下式所示化合物中的一种或多种:

式(1-1):式(1)中,R1为H,L为不存在,R2为甲基;

式(1-2):式(1)中,R1为H,L为不存在,R2为乙基;

式(1-3):式(1)中,R1为H,L为不存在,R2为正丙基;

式(1-4):式(1)中,R1为H,L为不存在,R2为正丁基;

式(1-5):式(1)中,R1为H,L为不存在,R2为甲氧基;

式(1-6):式(1)中,R1为H,L为不存在,R2为乙氧基;

式(1-7):式(1)中,R1为H,L为不存在,R2为正丙氧基;

式(1-8):式(1)中,R1为H,L为不存在,R2为正丁氧基;

式(1-9):式(1)中,R1为CH3,L为不存在,R2为甲基;

式(1-10):式(1)中,R1为CH3,L为不存在,R2为乙基;

式(1-11):式(1)中,R1为CH3,L为不存在,R2为正丙基;

式(1-12):式(1)中,R1为CH3,L为不存在,R2为正丁基;

式(1-13):式(1)中,R1为CH3,L为不存在,R2为甲氧基;

式(1-14):式(1)中,R1为CH3,L为不存在,R2为乙氧基;

式(1-15):式(1)中,R1为CH3,L为不存在,R2为正丙氧基;

式(1-16):式(1)中,R1为CH3,L为不存在,R2为正丁氧基;

式(1-17):式(1)中,R1为Cl,L为不存在,R2为甲基;

式(1-18):式(1)中,R1为Cl,L为不存在,R2为乙基;

式(1-19):式(1)中,R1为Cl,L为不存在,R2为正丙基;

式(1-20):式(1)中,R1为Cl,L为不存在,R2为正丁基;

式(1-21):式(1)中,R1为Cl,L为不存在,R2为甲氧基;

式(1-22):式(1)中,R1为Cl,L为不存在,R2为乙氧基;

式(1-23):式(1)中,R1为Cl,L为不存在,R2为正丙氧基;

式(1-24):式(1)中,R1为Cl,L为不存在,R2为正丁氧基;

式(1-25):式(1)中,R1为H,L为-CH2-,R2为甲基;

式(1-26):式(1)中,R1为H,L为-CH2-,R2为乙基;

式(1-27):式(1)中,R1为H,L为-CH2-,R2为正丙基;

式(1-28):式(1)中,R1为H,L为-CH2-,R2为正丁基;

式(1-29):式(1)中,R1为H,L为-CH2-,R2为甲氧基;

式(1-30):式(1)中,R1为H,L为-CH2-,R2为乙氧基;

式(1-31):式(1)中,R1为H,L为-CH2-,R2为正丙氧基;

式(1-32):式(1)中,R1为H,L为-CH2-,R2为正丁氧基;

式(1-33):式(1)中,R1为CH3,L为-CH2-,R2为甲基;

式(1-34):式(1)中,R1为CH3,L为-CH2-,R2为乙基;

式(1-35):式(1)中,R1为CH3,L为-CH2-,R2为正丙基;

式(1-36):式(1)中,R1为CH3,L为-CH2-,R2为正丁基;

式(1-37):式(1)中,R1为CH3,L为-CH2-,R2为甲氧基;

式(1-38):式(1)中,R1为CH3,L为-CH2-,R2为乙氧基;

式(1-39):式(1)中,R1为CH3,L为-CH2-,R2为正丙氧基;

式(1-40):式(1)中,R1为CH3,L为-CH2-,R2为正丁氧基;

式(1-41):式(1)中,R1为Cl,L为-CH2-,R2为甲基;

式(1-42):式(1)中,R1为Cl,L为-CH2-,R2为乙基;

式(1-43):式(1)中,R1为Cl,L为-CH2-,R2为正丙基;

式(1-44):式(1)中,R1为Cl,L为-CH2-,R2为正丁基;

式(1-45):式(1)中,R1为Cl,L为-CH2-,R2为甲氧基;

式(1-46):式(1)中,R1为Cl,L为-CH2-,R2为乙氧基;

式(1-47):式(1)中,R1为Cl,L为-CH2-,R2为正丙氧基;

式(1-48):式(1)中,R1为Cl,L为-CH2-,R2为正丁氧基。

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