[发明专利]一种间歇式珍珠抛光及筛选装置

说明书

本发明专利公开了一种间歇式珍珠抛光及筛选装置，包括抛光结构、筛选结构和支撑结构，抛光结构设于筛选结构的一侧上方，支撑结构设有支撑底座，支撑底座的两侧顶端分别设有第一支撑架和第二支撑架，第一支撑架的内部为腔体结构，第一支撑架内部底端设有返砂结构，第一支撑架的顶端一侧设有位于抛光结构上方的出砂管，出砂管由靠近第一支撑架的一端逐渐倾斜向下。有益效果：能够使珍珠的各个侧面进行缓慢有效的抛光，减少了在抛光过程中对珍珠形状的改变及对珍珠层的损坏，能够加速抛光砂的下漏，同时减少漏砂网垫对珍珠的磨损，能够带动螺纹升降柱进行快速上升，能够完成抛光砂的反复使用功能，能够在珍珠抛光后进行形状筛选。

技术领域

本发明专利涉及珍珠抛光技术领域，具体来说涉及一种间歇式珍珠抛光及筛选装置。

背景技术

珍珠分为有核和无核两种，但是其基本构成是一致的。都是由外层的珍珠质和内层的珠核构成的。珍珠会沿着珠核一层层生长，珠母贝每分泌一次珍珠液都会形成一层相对独立的薄薄的珍珠层，珍珠层的厚薄和细腻程度决定了珍珠的光亮度。对于有核珍珠来说，珍珠层会更薄。打磨会使表层的珍珠层变薄，缩短珍珠寿命，甚至造成翻皮脱皮。因此，珍珠在流入市场之前，主要是采用抛光这道工序的，因为珍珠的硬度比较低，传统的抛光一样会破坏珍珠。珍珠抛光，其实就是打蜡，用上过蜡的玉米芯对珍珠进行抛光处理，这样会更好的保护珍珠。

针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。

发明专利内容

针对相关技术中的问题，本发明专利提出一种间歇式珍珠抛光及筛选装置，以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。

为此，本发明专利采用的具体技术方案如下：

一种间歇式珍珠抛光及筛选装置，包括抛光结构、筛选结构和支撑结构，所述抛光结构设于所述筛选结构的一侧上方，所述支撑结构设有支撑底座，所述支撑底座的两侧顶端分别设有第一支撑架和第二支撑架，所述第一支撑架的内部为腔体结构，所述第一支撑架内部底端设有返砂结构，所述第一支撑架的顶端一侧设有位于所述抛光结构上方的出砂管，所述出砂管由靠近所述第一支撑架的一端逐渐倾斜向下。

进一步的，所述抛光结构设有第一拨动体和第二拨动体，所述第一拨动体固定设于所述第二拨动体的内部中心位置，所述第一拨动体为半球空心结构，所述第一拨动体的底端中心位置设有穿插于所述第二拨动体底端的下料管，所述下料管的底端固定连接有传送结构，所述下料管的顶端活动设有密封盖，所述密封盖的底端周围均匀设有若干支撑架，所述支撑架的底端一侧设有伸缩杆，所述伸缩杆的底端设有计时器。

进一步的，所述第二拨动体的顶端均匀设有若干拨动弧顶，所述拨动弧顶之间设有拨动纵槽，所述拨动弧顶的中心位置设有缓冲凹槽，所述第二拨动体的顶端活动设有拨动结构，所述拨动结构设有拨动半柱，所述拨动半柱靠近第二拨动体的一端设有拨动半弧，所述拨动半弧活动设于所述缓冲凹槽内，所述拨动半柱远离所述第二拨动体的一端侧壁固定设有连接弧板，所述连接弧板另一端靠近所述第二拨动体的一侧设有拨动支柱，所述拨动半柱远离所述第二拨动体的一端中心固定设有拨动驱动杆，所述拨动驱动杆的另一侧活动套设有拨动支撑柱，所述拨动驱动杆的另一端固定设有位于所述拨动支撑柱顶端内部的第一驱动电机，所述第二拨动体的底端固定设有第一支撑横架，所述第一支撑横架的另一端设有固定套环，所述固定套环固定套设于所述第一支撑架的上方，所述拨动支撑柱的底端与所述第一支撑横架固定连接。

进一步的，所述传送结构设有传送螺旋管，所述传送螺旋管的顶端与所述下料管连接，所述传送螺旋管内倾斜设有漏砂网垫，所述漏砂网垫由顶端至底端的网孔密度逐渐增加，所述网孔最大直径为.厘米，所述传送螺旋管的底端均匀设有若干漏砂口，所述漏砂口的底端设有垂直漏砂管，所述垂直漏砂管的底端设有漏砂汇管，所述漏砂汇管的另一端与所述第一支撑架固定连接，所述第一支撑架与所述漏砂汇管连接处设有接砂口，所述第一支撑架远离所述接砂口的一侧设有位于所述接砂口水平位置下方的驱动支撑腔。