[发明专利]一种镧系稀土氧化物复合TiSiN涂层在审
申请号: | 202110952851.6 | 申请日: | 2021-08-19 |
公开(公告)号: | CN113667931A | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 王博;王诗阳;南勋 | 申请(专利权)人: | 嘉兴鸷锐新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/50;C23C14/54;C23C14/02;C23C14/35;B23B27/14 |
代理公司: | 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 11562 | 代理人: | 许佳 |
地址: | 314032 浙江省嘉兴市秀*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 稀土 氧化物 复合 tisin 涂层 | ||
1.一种镧系稀土氧化物复合TiSiN涂层,其特征在于,涂层成分含3~8mol.%的镧系稀土氧化物,其中镧系稀土元素均匀分布在涂层中;
所述镧系稀土氧化物复合TiSiN涂层厚度为3~5μm;
所述的镧系稀土氧化物复合TiSiN涂层的制备方法,包括以下步骤:将经过离子刻蚀的基材置于真空室中,安装钛源靶材、硅源靶材以及稀土氧化物靶材,氮气环境下,通过磁控溅射法进行镧系稀土氧化物复合TiSiN涂层的沉积;
钛源靶材、硅源靶材持续通入120-180A电流,维持-50V偏压;稀土氧化物靶材持续通入100A电流,维持-20V偏压;
所述真空室真空度为5×10-4mbar,氮气流量为500sccm,所述沉积时间60-240min;
所述钛源靶材、硅源靶材为TiSi靶材,其中硅含量为15~25wt.%;
所述镧系稀土氧化物为氧化镧。
2.根据权利要求1所述的镧系稀土氧化物复合TiSiN涂层,其特征在于,所述离子刻蚀具体包括以下步骤:
将基材置于真空室中,抽真空至5×10-4mbar,升温至450℃,向真空室内通入氩气,氩气流量为45sccm,维持偏压-180V进行离子轰击得到经过离子刻蚀的基材。
3.一种根据权利要求1-2任一项所述的镧系稀土氧化物复合TiSiN涂层在刀具涂层中的应用。
4.根据权利要求3所述的应用,其特征在于,所述刀具为切削刀具。
5.一种切削刀具,其特征在于,所述切削刀具表面涂层为权利要求1-2任一项所述的镧系稀土氧化物复合TiSiN涂层。
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