[发明专利]超大视场角的全光场调控系统在审

专利信息
申请号: 202110943982.8 申请日: 2021-08-17
公开(公告)号: CN113625465A 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 赵健;李玲玲 申请(专利权)人: 南京工程学院
主分类号: G02B30/26 分类号: G02B30/26;G02B27/01;G02F1/13;G03H1/00
代理公司: 南京钟山专利代理有限公司 32252 代理人: 王磊
地址: 211167 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 超大 视场 全光场 调控 系统
【权利要求书】:

1.超大视场角的全光场调控系统,其特征在于,包括反射层(1)、光源层(2)、滤光片层(3)和光栅层(4),光源层(2)位于反射层(1)和滤光片层(3)之间,且光源层(2)朝向反射层(1),滤光片层(3)位于光源层(2)和光栅层(4)之间;

所述反射层(1)为反射式微镜面结构,用于将来自光源层(2)的光束准直化;所述光源层包括多个光源,用于产生周期性光束,且光源间的透明间隔为准直光束的水平宽度;所述滤光片层(3)包括显示器的红滤光片层、绿滤光片层和蓝滤光片层,为周期结构,不同颜色的滤光片层称为子像素,三种子像素组成一个像素;所述光栅层(4)为光学调控元件阵列,具有子像素级的光线调控能力,阵列中光学调控元件的最小间隔为子像素大小,光学调控元件方向的调控方式包括静态调控和动态调控;

所述光源层(2)发出的光束,经反射层(1)反射后转变为准直光束,准直光束通过光源层(2)中的透明间隔区域并经过滤光片层(3)到达光栅层(4),穿过每个子像素的准直光束经光栅层(4)的光线调控后被依次投射到指定的空间位置,形成一系列的汇聚点。

2.如权利要求1所述的超大视场角的全光场调控系统,其特征在于,所述光源层(2)的光源可选类型包括微LED光源、激光光源和辐射光源。

3.如权利要求1所述的超大视场角的全光场调控系统,其特征在于,所述反射层(1)的可选组成类型包括微透镜阵列、微曲面镜阵列和反射型全息光栅。

4.如权利要求1所述的超大视场角的全光场调控系统,其特征在于,所述光栅层(4)的调控元件可选类型包括一维光栅、二维光栅、三维体全息光栅和微透镜。

5.如权利要求1所述的超大视场角的全光场调控系统,其特征在于,将所述光栅层(4)的光学调控元件阵列替换为基于液晶材料的偏振型体全息光栅,通过调节电压来实现光学调制角度和调制密度的动态调整。

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