[发明专利]阵列基板及显示面板在审

专利信息
申请号: 202110896644.3 申请日: 2021-08-05
公开(公告)号: CN113628573A 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 谭敏力;刘健;刘林峰 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G09G3/20 分类号: G09G3/20;G09G3/32
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 官建红
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阵列 显示 面板
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括扫描线、数据线以及多个重复排列的像素单元组;其中,

所述像素单元组均包括第一像素单元和第二像素单元,且所述第一像素单元和所述第二像素单元沿所述第一像素单元至所述第二像素单元的方向排列;所述第一像素单元包括第一子像素和第二子像素,且所述第一子像素和第二子像素沿扫描线方向排列;所述第二像素单元包括所述第一子像素和第三子像素,且所述第一子像素和所述第三子像素沿扫描线方向排列;在同一个像素单元组中,两个所述第一子像素之间设有所述第二子像素以及所述第三子像素中的一种或两种的组合。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,在同一个像素单元组中,两个所述第一子像素之间设有所述第二子像素或所述第三子像素。

3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,在所述第一像素单元中,所述第一子像素以及所述第二子像素依次沿所述第一像素单元至所述第二像素单元的方向排列;在所述第二像素单元中,所述第一子像素和所述第三子像素依次沿所述第一像素单元至所述第二像素单元的方向排列。

4.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,在所述第一像素单元中,所述第二子像素以及所述第一子像素依次沿所述第一像素单元至所述第二像素单元的方向排列;在所述第二像素单元中,所述第三子像素和所述第一子像素依次沿所述第一像素单元至所述第二像素单元的方向排列。

5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,在同一个像素单元组中,两个所述第一子像素之间设有所述第二子像素以及所述第三子像素,在所述第一像素单元中,所述第一子像素以及所述第二子像素依次沿所述第一像素单元至所述第二像素单元的方向排列,在所述第二像素单元中,所述第三子像素和所述第一子像素依次沿所述第一像素单元至所述第二像素单元的方向排列。

6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一像素单元还包括第三子像素;位于所述第一像素单元中的所述第一子像素和所述第三子像素均位于所述第二子像素远离所述第二像素单元的一侧。

7.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,在所述第一像素单元中,所述第一子像素、所述第三子像素以及所述第二子像素依次沿所述第一像素单元至所述第二像素单元的方向排列。

8.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,在所述第一像素单元中,所述第三子像素、所述第一子像素以及所述第二子像素依次沿所述第一像素单元至所述第二像素单元的方向排列。

9.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第二像素单元还包括第二子像素;位于所述第二像素单元中的所述第一子像素和所述第二子像素均位于所述第三子像素远离所述第一像素单元的一侧。

10.根据权利要求9所述的阵列基板,其特征在于,在所述第二像素单元中,所述第三子像素、所述第一子像素以及所述第二子像素依次沿所述第一像素单元至所述第二像素单元的方向排列。

11.根据权利要求9所述的阵列基板,其特征在于,在所述第二像素单元中,所述第三子像素、所述第二子像素以及所述第一子像素依次沿所述第一像素单元至所述第二像素单元的方向排列。

12.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,位于同一列的子像素颜色一致。

13.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,位于同一列的子像素均连接同一条所述数据线,位于同一行的子像素均连接同一条所述扫描线。

14.一种显示面板,其特征在于,包括彩膜基板、液晶层以及权利要求1至13任一项所述的阵列基板,所述液晶层设置在所述阵列基板上,所述彩膜基板设置在所述液晶层远离所述阵列基板的一面上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110896644.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top