[发明专利]用于模拟细胞形变损伤的细胞培养装置

权利要求书

1.一种用于模拟细胞形变损伤的细胞培养装置，其特征在于，包括，

细胞培养槽(2)，用于盛放培养基和细胞；

第一电磁装置，其设置于所述细胞培养槽(2)一侧，所述第一电磁装置包括串联的第一电源(3)、第一螺线管(31)和第一开关(32)，所述第一螺线管(31)靠近所述细胞培养槽(2)设置；

第二电磁装置，与所述第一电磁装置的结构相同，包括第二电源、第二螺线管和第二开关，所述第二电磁装置设置在所述细胞培养槽(2)的另一侧；所述第二电磁装置与所述第一电磁装置中电流方向相同或相反。

2.根据权利要求1所述的用于模拟细胞形变损伤的细胞培养装置，其特征在于，还包括空腔的底座(1)，所述细胞培养槽(2)、第一电磁装置、第二电磁装置均设于所述底座(1)上，所述第一电源(3)和所述第二电源均设置在所述底座(1)的空腔内，所述第一开关(32)和所述第二开关均设置在所述底座(1)侧壁，所述第一螺线管(31)和所述第二螺线管均安装在所述底座(1)上方。

3.根据权利要求2所述的用于模拟细胞形变损伤的细胞培养装置，其特征在于，所述第一螺线管(31)内部是空心，或者设置有金属芯。

4.根据权利要求2所述的用于模拟细胞形变损伤的细胞培养装置，其特征在于，所述第一螺线管(31)与所述细胞培养槽(2)之间的距离为0.1-3cm。

5.根据权利要求2所述的用于模拟细胞形变损伤的细胞培养装置，其特征在于，所述第一电磁装置和所述第二电磁装置的串联电路上均安装有可变电阻，所述可变电阻的开关均安装在所述底座(1)的外壁。

6.根据权利要求2所述的用于模拟细胞形变损伤的细胞培养装置，其特征在于，还包括，

滑轨(4)，其安装在所述底座(1)上、沿所述细胞培养槽(2)长度方向的两侧延伸；

两个滑块(5)，每个所述滑轨(4)上均连接有所述滑块(5)，其中一个所述滑块(5)上安装有第一螺线管(31)，另一个所述滑块(5)上安装有第二螺线管；

两个限位装置，分别安装在每个所述滑块(5)上。

7.根据权利要求6所述的用于模拟细胞形变损伤的细胞培养装置，其特征在于，所述限位装置为步进电机或者带自锁的滚轮。

8.根据权利要求6所述的用于模拟细胞形变损伤的细胞培养装置，其特征在于，沿每个所述滑轨(4)的两侧分别设有通槽(6)。

9.根据权利要求1所述的用于模拟细胞形变损伤的细胞培养装置，其特征在于，所述第一电磁装置还包括，

第一显示器(33)，安装在所述底座(1)外壁；

第一电流传感器，安装在所述底座(1)内部，与所述第一螺线管(31)连接；

第一控制器，分别与所述第一显示器(33)和所述第一电流传感器连接。

10.根据权利要求1所述的用于模拟细胞形变损伤的细胞培养装置，其特征在于，所述细胞培养槽(2)包括，

浅槽体(21)，安装在所述底座(1)上；

框架(22)，安装在所述浅槽体(21)顶部，其与所述第一螺线管(31)和所述第二螺线管相邻的侧面开口，所述第一螺线管(31)和所述第二螺线管的管口分别正对着与其相邻的框架(22)开口；

多个挡板(23)，安装在浅槽体(21)上、沿所述浅槽体(21)长度方向分布。