[发明专利]液晶玻璃基板研磨盘平坦度辅助检测装置及检测方法在审

专利信息
申请号: 202110861503.8 申请日: 2021-07-29
公开(公告)号: CN113701674A 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 程秀文;张小虎 申请(专利权)人: 蚌埠高华电子股份有限公司
主分类号: G01B11/30 分类号: G01B11/30;G01B11/02
代理公司: 合肥鸿知运知识产权代理事务所(普通合伙) 34180 代理人: 王昕
地址: 233000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 液晶 玻璃 研磨 平坦 辅助 检测 装置 方法
【说明书】:

本发明公开了液晶玻璃基板研磨盘平坦度辅助检测装置及检测方法,涉及TFT‑LCD玻璃深加工技术领域。在本发明中:平坦度辅助检测装置包括检测长条本体和外控盒,外控盒位于检测长条本体的一侧端,检测长条本体的另一端设置有端侧对径安装板,端侧对径安装板的外侧端面嵌入安装有对径传感条;检测长条本体的下侧面嵌入安装有边侧可见光定位器和若干依次排列的光电距离传感探头;检测长条本体的上侧面固定设置有一组吸附块,检测长条本体的上侧面嵌入安装有位于两个吸附块之间的水平检测机构。本发明实现了小体积化、无外置连接线式的研磨盘多位平坦度检测,避免了人力放置较重直规所产生的较大检测误差,提高了研磨盘的检测效率和检测精度。

技术领域

本发明属于TFT-LCD玻璃深加工技术领域,特别是涉及液晶玻璃基板研磨盘平坦度辅助检测装置及检测方法。

背景技术

在现有的TFT-LCD玻璃加工过程中,研磨盘作为玻璃基板的重要加工设备,其研磨的效果和品质将会对TFT-LCD玻璃产品产生较大影响。

在进行TFT-LCD玻璃研磨前,对研磨盘的研磨面进行平坦度检测是保证研磨品质的前提操作,现有常用较重的直规进行检测,但人力测量上盘时需3人协同作业,比较费时、费力,人力放置直规易使直规两端受力不均,进而影响测量的准确性。另外,测量下盘平坦度时用塞尺测量精度不够,测量上盘平坦度时直规较重且用塞尺测量精度不够,盘型不平影响研磨效果。这就需要设计一种新型的平坦度检测装置,能够实现检测方便且检测效果较好。

现有专利文件一,公开号:CN201497483U,专利名称:一种晶片研磨下盘面平整度测量装置,主要技术内容:包括尺底座以及固定连接在尺底座上的把持部,且该尺底座上还间隔地顺序安装有三个分别用于测量研磨下盘面外边缘、内部和内边缘的平整度测量仪,由此可知,由于本实用新型在同一尺底座上安装有三个平整度测量仪,则进行一次测量就可以反应出该位置的平整度,而无须像现有技术中,需要分别测量三次,才能获取下研磨盘面的平面精度,则本实用新型极大地提高了下研磨盘面平整度检测速度,有效地提高了晶片加工的速度,同时还避免分次测量所造成的测量误差,甚至由于操作失误造成的测量错误。

上述专利文件一中,并不能够较好的适用于TFT-LCD玻璃研磨盘中上下研磨盘的平坦度高效、精准检测。

发明内容

本发明的目的在于提供液晶玻璃基板研磨盘平坦度辅助检测装置及检测方法,实现了小体积化、无外置连接线式的研磨盘多位平坦度检测,避免了人力放置较重直规所产生的较大检测误差,提高了研磨盘的检测效率和检测精度。

为解决上述技术问题,本发明是通过以下技术方案实现的:

本发明为液晶玻璃基板研磨盘平坦度辅助检测装置,用于检测上研磨盘的上研磨面、下研磨盘的下研磨面,上研磨盘上安装有主轴杆,下研磨盘上配置有位于中部位置的下盘驱动齿柱和位于外边缘位置的下盘外齿柱。

平坦度辅助检测装置包括检测长条本体和外控盒,外控盒位于检测长条本体的一侧端,检测长条本体的另一端设置有端侧对径安装板,端侧对径安装板的外侧端面嵌入安装有对径传感条;检测长条本体的下侧面嵌入安装有边侧可见光定位器和若干依次排列的光电距离传感探头;检测长条本体的上侧面固定设置有一组吸附块,检测长条本体的上侧面嵌入安装有位于两个吸附块之间的水平检测机构,检测长条本体的上侧面设置有外齿块和内齿块。

作为本发明中液晶玻璃基板研磨盘平坦度辅助检测装置的一种优选技术方案:外控盒上配置有显示屏,外控盒内置主控板,主控板通过控制线路与边侧可见光定位器、吸附块电连接,主控板通过信号传输线路与水平检测机构、光电距离传感探头和对径传感条电连接;外控盒的主控板上配置有无线模块,用于控制信息的获取和传感检测信息的上传;外控盒上配置有用于整个外控盒的开关键、用于控制吸附块的电控确认键和用于开启检测平坦度的检测的检测信号键;外控盒内置充电电源,为外控盒元器件提供电能。

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