[发明专利]玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置及方法有效
申请号: | 202110861306.6 | 申请日: | 2021-07-29 |
公开(公告)号: | CN113751450B | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 程秀文;梁超 | 申请(专利权)人: | 蚌埠高华电子股份有限公司 |
主分类号: | B08B11/04 | 分类号: | B08B11/04;B08B5/02;B08B3/08;B08B1/00;B08B15/04;G01N21/84 |
代理公司: | 合肥鸿知运知识产权代理事务所(普通合伙) 34180 | 代理人: | 王昕 |
地址: | 233000 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 表面 抛光 残留 检测 处理 一体化 系统 装置 方法 | ||
1.玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置,其特征在于:包括吹风通道(1),所述吹风通道(1)下游连通有吸尘通道(2),所述吸尘通道(2)下游连通有光检通道(3),所述光检通道(3)下游连通有中和处理通道(4);所述吹风通道(1)、吸尘通道(2)、光检通道(3)和中和处理通道(4)内都配置有由外界动力装置驱动转动的导辊结构;所述吹风通道(1)内配置有上出风装置(101)和下出风装置(102),所述上出风装置(101)和下出风装置(102)都开设有朝向导辊结构的斜向出风口(103),所述吹风通道(1)内配置有位于上出风装置(101)上游方位的第一位置传感器(104),所述吹风通道(1)内设置有位于上出风装置(101)下游方位的第二位置传感器(105);所述吸尘通道(2)内配置有上吸尘装置(201)和下吸尘装置(202),所述上吸尘装置(201)和下吸尘装置(202)都设置有朝向导辊结构的吸尘口(203);所述光检通道(3)内配置有光检装置(301),所述光检装置(301)下侧面安装有若干等间隔分布的曝光度检测机构(304),所述光检装置(301)下侧面设置有位于曝光度检测机构(304)下游的第三位置传感器(303),所述光检装置(301)的下侧面嵌入设置有位于相邻的曝光度检测机构(304)之间的远离处光度传感器(305),所述光检通道(3)内设置有若干位于导辊结构下方的底侧伸缩装置(306);所述中和处理通道(4)内独立配置有第一水箱(401)、第二水箱(402)、第三水箱(403),所述中和处理通道(4)内配置有与第一水箱(401)相配合的第一清洗舱(404),所述中和处理通道(4)内配置有与第二水箱(402)相配合的毛刷清洗舱(405),所述中和处理通道(4)内配置有与第三水箱(403)相配合的纯水喷淋舱(406),所述中和处理通道(4)内配置有一级风刀干燥舱(407)、二级风刀干燥舱(408)。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置,其特征在于:所述上出风装置(101)和下出风装置(102)的斜向出风口(103)的倾斜方向都偏向吸尘通道(2)。
3.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置,其特征在于:所述吸尘通道(2)内设置有位于上吸尘装置(201)、下吸尘装置(202)下游的下游挡板(204),所述导辊结构横向穿过上下侧的下游挡板(204)之间。
4.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置,其特征在于:所述光检装置(301)的下侧面边缘区域设置有内面反光框板(302),所述内面反光框板(302)的内侧壁面涂覆有反光材料层。
5.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置,其特征在于:所述底侧伸缩装置(306)至少设置平行的三组,每组的底侧伸缩装置至少为两个;所述底侧伸缩装置(306)包括向上穿过相邻导辊结构的伸缩杆(307),所述伸缩杆(307)上端配置有用于支撑抛光后的玻璃基板(5)的支撑橡胶垫板(308)。
6.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置,其特征在于:所述曝光度检测机构(304)包括条状的曝光LED(3041)和接近面光度传感条(3042),所述接近面光度传感条(3042)内嵌若干个光度传感探头。
7.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置,其特征在于:所述第一水箱(401)内盛放有弱酸性溶液,所述第一水箱(401)通过水流系统与第一清洗舱(404)连通;所述第二水箱(402)、第三水箱(403)内盛放有清水,所述第二水箱(402)通过水流系统与毛刷清洗舱(405)连通,所述第三水箱(403)通过水流系统与纯水喷淋舱(406)连通;其中,所述毛刷清洗舱(405)内配置有毛刷结构。
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