[发明专利]光学装置、制造光学装置的方法和操作光学装置的方法

说明书

光学装置(1)，包括：光学元件(10)，所述光学元件经由平台(30)安装在承载件(20)上；平台(30)，所述平台包括基部(32)和弹性结构(31)，其中，所述基部(32)连接至所述光学元件(10)，所述弹性结构(31)将所述基部(32)与所述承载件(20)连接，所述平台(30)沿着由x方向(101)和y方向(102)限定的x‑y平面延伸；致动器(40)，所述致动器被设置为在沿着所述x‑y平面的方向上向所述基部(32)施加力，所述弹性结构(32)在所述x方向(101)和所述y方向(102)上是弹性的，以及所述基部(32)和所述弹性结构(31)以单件的方式制成。

技术领域

本申请涉及光学装置、制造光学装置的方法和操作光学装置的方法。

背景技术

光学装置用于对撞击在光学装置上的电磁辐射的特性进行主动控制，所述特性例如是电磁辐射的方向、相互干扰、光谱和/或焦点。

发明内容

本文描述的光学装置被设置为用于主动控制撞击在光学装置上的电磁辐射的特性。特别地，电磁辐射在可见光的波长范围内。所述特性可以是光束的方向、相互干扰、光谱和/或焦点。特别地，该光学装置是散斑减少器，其被设置为减少由一组相干波前的相互干涉产生的散斑图案。

用于制造光学装置的方法特别适用于制造所述光学装置。用于操作光学装置的方法特别适用于操作所述光学装置。

该光学装置包括光学元件，该光学元件通过平台安装在承载件上。该光学元件可以是透明的或反射式光学元件，其被设置为与电磁辐射相互作用。特别地，该光学元件被设置为漫反射或透射电磁辐射。例如，该光学元件是漫射器。该光学元件可以基本上具有方形形状，其具有33mm乘以 31mm的边长以及900mm²的基本上二次的光学可用面积。该光学元件可以是具有单个漫射器表面的漫射器。特别地，所述漫射器表面可以设置在具有附加光学元件的光学系统的像平面中。

该光学元件附接至平台。该平台附接至承载件。特别地，该平台和/或承载件被设置为以可限定的方式移动光学元件。该平台和/或承载件可以具有电磁辐射可透射的开口。该平台和/或承载件可以设置成使得在预期操作中，电磁辐射与光学元件相互作用而不与平台和/或承载件相互作用。

该平台包括基部和弹性结构。光学元件附接至基部。弹性结构将基部与承载件连接。基部与弹性结构以单件的方式制成。因此，弹性结构包括与基部相同的材料。例如，基部和弹性结构由片材制成，特别是由聚合物片材或金属片材制成。弹性结构与基部之间的过渡没有紧固件、粘合剂和紧固区域。

弹性结构与承载件可以通过联锁和形状配合连接部来进行连接。平台，特别是基部，基本上沿着xy平面延伸，该xy平面由x方向和y方向限定，两个方向都沿着xy平面延伸。特别地，x方向和y方向相对于彼此垂直地延伸。弹性结构在x方向和y方向上是弹性的。此处和下文中，在某个方向上的弹性是指物体在所述方向上具有特别低的弹性模量。例如，在未明确分配弹性特性的方向上的弹性模量是在分配弹性特性的方向上的弹性模量的至少5倍大，优选地是至少10倍大。

光学装置包括致动器，该致动器被设置为施加力。该力抵抗弹性结构的弹力而作用于基部与承载件之间。例如，致动器直接将力施加至平台和承载件。致动器施加的力可以是磁力和/或电磁力。特别地，致动器施加的力的主要部分沿xy平面作用。例如，致动器被设置为在单个方向上施加力，其中所述单个方向沿着xy平面延伸。

致动器能够使基部相对于承载件进行受控移动。特别地，光学装置被设置成使得光学元件沿着基本上沿xy平面延伸的路径相对于承载件移动。特别地，该路径具有椭圆形或圆形形状，该路径在30Hz与200Hz之间(优选地在50Hz与80Hz之间)的频率下可以具有介于0.5mm与3mm之间的幅度。特别地，该路径在垂直于xy平面的方向上延伸小于0.1mm，优选地延伸小于0.05mm。