[发明专利]一种改善立式管式炉气体流通均匀性的方法

权利要求书

1.一种改善立式管式炉气体流通均匀性的方法，其特征在于，包括以下步骤；

(1)对实心圆柱堵头的圆心位置打通直径为5～10mm的孔洞，使其贯穿整个堵头；

(2)将步骤(1)中打完贯穿孔的堵头竖直放置，在顶部从圆周沿着半径方向向圆心打3～4个直径为5～10mm分布均匀的通道。

2.根据权利要求1所述的一种改善立式管式炉气体流通均匀性的方法，其特征在于，所述通道为半圆锥体或半圆柱体。

3.根据权利要求2所述的一种改善立式管式炉气体流通均匀性的方法，其特征在于，当使用底面直径小于等于20mm的坩埚时可放置在堵头顶部非孔洞和非通道的平面，当使用底面直径大于20mm的坩埚时可放置在堵头顶部的孔洞正上方，此时当气体通过孔洞从底部传输至顶部遇到坩埚后，分散为三路或者四路气体向上流通，均匀分布在坩埚的四周，保证了气体流通在坩埚周边的均匀性。

4.根据权利要求2所述的一种改善立式管式炉气体流通均匀性的方法，其特征在于，使用半圆锥体通道时，通过孔洞从底部传输至顶部遇到坩埚后，分散为三路或者四路气体流通，此时的气体将沿着通道向斜上方传输，气体的传输过程更加流畅和均匀。

5.基于权利要求1-4任一项所述的一种改善立式管式炉气体流通均匀性的方法的应用，其特征在于，所述方法制备的堵头用于立式管式炉底部，或者其他需要从底部向顶部运输流体，但顶部有物体阻挡的情景，能够实现流体的顺利传输和传输的均匀性。