[发明专利]一种多相BN-Y/CrAlN复合涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种多相BN-Y/CrAlN复合涂层，包括交替层叠排列的CrAlN层和多相BN-Y层；所述多相BN-Y层的微观结构包括面心立方结构的CrAlN相和六方结构的BN相；所述CrAlN层的晶粒为柱状晶；

每层CrAlN层的厚度独立地为4～6nm；每层多相BN-Y层的厚度独立地为0.4～2.4nm；所述多相BN-Y/CrAlN复合涂层的总厚度为1.2～1.6nm；

所述的多相BN-Y/CrAlN复合涂层的制备方法，具体为：在基体表面通过磁控溅射依次交替溅射沉积CrAlN层和多相BN-Y层，得到多相BN-Y/CrAlN复合涂层；所述基体在磁控溅射前进行预处理，所述预处理为依次进行的抛光、超声清洗和离子清洗；

所述CrAlN层的溅射沉积的电源为直流电源，所述直流电源的溅射功率为140～160W；每层CrAlN层的溅射沉积的时间独立地为10～18s；

所述多相BN-Y层的溅射沉积的电源为射频电源，所述射频电源的溅射功率为85～100W；每层BN-Y层的溅射沉积的时间独立地为2～12s；

所述磁控溅射的反应气体为氮气，所述氮气的流量为7～10sccm；

所述磁控溅射的保护气体为氩气，所述氩气的流量为28～32sccm；

所述磁控溅射的工作压强为0.4～0.5Pa；

所述磁控溅射的靶材为Cr₅₀Al₅₀靶和B₆₀Y₄₀靶，所述Cr₅₀Al₅₀靶和B₆₀Y₄₀靶到基体的距离独立地为4～7cm。

2.如权利要求1所述的多相BN-Y/CrAlN复合涂层，其特征在于，所述基体包括高速钢、模具钢或硬质合金。

3.如权利要求1所述的多相BN-Y/CrAlN复合涂层，其特征在于，所述离子清洗的功率为80～100W，离子清洗的时间为25～30min。