[发明专利]一种基于古斯-汉森位移的高灵敏度光波长传感器在审

专利信息
申请号: 202110841658.5 申请日: 2021-07-26
公开(公告)号: CN113418618A 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 刘芳梅 申请(专利权)人: 湖北科技学院
主分类号: G01J9/00 分类号: G01J9/00
代理公司: 咸宁鸿信专利代理事务所(普通合伙) 42249 代理人: 刘喜
地址: 437100 湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 位移 灵敏度 光波 传感器
【说明书】:

发明提供了一种基于古斯‑汉森位移的高灵敏度光波长传感器,属于光学技术领域。高灵敏度光波长传感器的光子晶体包括石墨烯单层,石墨烯单层的入射侧设置有第一周期性晶体,石墨烯单层的出射侧设置有第二周期性晶体,石墨烯单层与第一周期性晶体之间、石墨烯单层与第二周期性晶体之间分别嵌入有一缺陷层;第一周期性晶体包括交替分布的若干第一电介质层和若干第二电介质层,第二周期性晶体包括交替分布的若干第三电介质层和若干第四电介质层。本发明能够探测入射光波长和同时实现拓扑边界态附近大的反射率和古斯‑汉森位移。

技术领域

本发明属于光学技术领域,涉及一种基于古斯-汉森位移的高灵敏度光波长传感器。

背景技术

当光照射到两种折射率分别为n1和n2的电介质上时,在电介质的分界面上,如果发生全反射,会有部分光场渗入下层介质内部,这就相当于在实际的分界面后面放置了一个虚拟的反射界面,那么,相对于原来几何光学预测的位置,反射光就会存在一个横向移动,该位移叫古斯-汉森位移,该现象叫古斯-汉森现象,最早由古斯(Goos)和汉森在实验上观测到。古斯-汉森位移的形成示意图如图1所示,其中符号Δ表示反射光束的横向位移,箭头线表示光束的中心轴线。

古斯-汉森位移可广泛应用于高灵敏度传感器和光开关。特别地,古斯-汉森位移对入射的光波长、入射角等特别敏感,故可应用高亮度波长和角度传感器。但是,在通常情况下,古斯-汉森位移比较弱,一般就几个波长或十几个波长,因此,这在实验上对古斯-汉森位移的检测以及应用造成很大的困难。因此,要得到基于古斯-汉森位移的高灵敏度波长和角度传感器,首先得提高古斯-汉森位移的量级。

人们采取多种方法来增强古斯-汉森位移,比如,利用光子晶体的带隙边缘态,以及材料的弱损耗,来得到较大的古斯-汉森位移。特别地,在非厄米光子系统(含有光增益和光损耗,或包含其一)中的异常点(exceptional points:EPs)和相干完美吸收激光点(coherent-perfect-absorption-laser point:CPA-LP)附近,会出现古斯-汉森极值,理论上达到无穷大。但是,在EPs的反射率为零,而且在其附近,反射率也非常低,另外,CPA-LP不是一个稳定光子态。因此,这激发我们探索稳定的、反射率大的,且能实现较大的古斯-汉森位移的光子器件。

古斯-汉森位移正比于反射系数的相位,在光子晶体的带隙边缘和缺陷模附近,反射系数的相位急剧改变,这就必然导致较大的古斯-汉森位移出现。为了进一步增大反射系数相位的变化率,可以将两种不同的光子晶体复合,得到拓扑边界态,在拓扑边缘态附近,反射系数相位变化更加剧烈。另外,石墨烯是一种新兴的二维材料,具有电导率可调节性,其表面电导率是其化学势的函数。单层石墨烯的透明的,但是,石墨烯中存在较弱的光学损耗系数。因此可以将石墨烯与光子晶体复合,来增强古斯-汉森位移,从而实现高灵敏度波长或角度传感器。

发明内容

本发明的目的是针对现有的技术存在的上述问题,提供一种基于古斯-汉森位移的高灵敏度光波长传感器,本发明所要解决的技术问题是得到一种能够探测入射光波长的高灵敏度光波长传感器。

本发明的目的可通过下列技术方案来实现:一种基于古斯-汉森位移的高灵敏度光波长传感器,其特征在于,高灵敏度光波长传感器的光子晶体包括石墨烯单层,所述石墨烯单层的入射侧设置有第一周期性晶体,所述石墨烯单层的出射侧设置有第二周期性晶体,所述石墨烯单层与第一周期性晶体之间、石墨烯单层与第二周期性晶体之间分别嵌入有一缺陷层;所述第一周期性晶体包括交替分布的若干第一电介质层和若干第二电介质层,所述第二周期性晶体包括交替分布的若干第三电介质层和若干第四电介质层。

进一步的,所述第一电介质层为氟化镁。

进一步的,所述缺陷层为氟化镁。

进一步的,所述第二电介质层为硫化锌。

进一步的,所述第三电介质层为硅。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖北科技学院,未经湖北科技学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110841658.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top