[发明专利]一种激光器放电腔电极损耗可补偿结构有效

专利信息
申请号: 202110837190.2 申请日: 2021-07-23
公开(公告)号: CN113783098B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 吴劲松;刘斌;陈文斌;马放;江锐 申请(专利权)人: 北京科益虹源光电技术有限公司
主分类号: H01S3/105 分类号: H01S3/105
代理公司: 北京融智邦达知识产权代理事务所(普通合伙) 11885 代理人: 吴强
地址: 100176 北京市通州区经济*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 激光器 放电 电极 损耗 补偿 结构
【说明书】:

发明提供了一种激光器放电腔电极损耗可补偿结构,其包括:放电腔腔体;所述腔体内相对设置有第一电极和第二电极;第一电极和第二电极的极性相反;在垂直于第一电极长度方向的截面上,第一电极包括环形基带,环形基带上平行间隔设置有多个电极条;环形基带可携带着所述电极条转动设置,进而第二电极可选择地与其中一个电极条配合产生高压放电。本发明结构简单,当第一电极上在使用的电极条发生损耗而高度变小,第二电极与该电极条间距变大时,可通过转动环形基带,使得其他新电极条与第二电极相对,从而实现第一电极和第二电极间距的补偿和恢复,操作简单而快捷,不影响激光器的正常使用。

技术领域

本发明涉及激光器技术领域,尤其是涉及一种准分子激光器放电腔电极损耗可补偿结构。

背景技术

目前,准分子激光器放电腔里面的电极在放电过程中会不断产生损耗,其中以阴极损耗尤为严重,从而导致阴极放电区域表面由于损耗高度而逐渐下降,进而使得阴极和阳极之间距离逐渐变大,从而影响放电性能,当阴极阳极间距增大到一定程度时,就必须更换电极,其中操作复杂、效率低,影响准分子激光器的持续使用。

为了保持阴极和阳极之间的距离不变,现有技术中采用在电极高度方向上对电极进行升降以减小阴阳两电极间距的补偿方式。电极升降调节方式存在的不足之处是:由于材料不均匀、装配位置偏差,电气性能不完全一致等原因导致电极表面的损耗在各处是不均匀的,升降调节的方式只能平均性地补偿损耗,局部还会出现不均匀情况,尤其是边缘部分损耗大于中间位置。

发明内容

本发明的目的在于提供一种激光器放电腔电极损耗可补偿结构,以解决现有技术中存在的至少一个上述技术问题。

为解决上述技术问题,本发明提供的一种激光器放电腔电极损耗可补偿结构,包括:放电腔腔体;

所述腔体内相对设置有第一电极和第二电极;第一电极和第二电极的极性相反;

在垂直于第一电极长度方向的截面上,第一电极包括环形基带,环形基带上平行间隔设置有多个电极条;环形基带可携带着所述电极条转动设置,进而第二电极可选择地与其中一个电极条配合产生高压放电。

本发明结构简单,当第一电极上在使用的电极条发生损耗而高度变小,第二电极与该电极条间距变大时,可通过转动环形基带,使得其他新电极条与第二电极相对,从而实现第一电极和第二电极间距的补偿和恢复,操作简单而快捷,不影响激光器的正常使用。

进一步地,所述第一电极为阳极或阴极,第二电极为阴极或阳极。

当阴极损耗不明显的情况下,优选地,所述第一电极为阳极,多个所述电极条等高设置。

在本申请中,电极条的高度为电极条的工作顶面与环形基带表面之间的距离,即电极条凸出环形基带表面的凸出高度。

更为优选地,在所述环形基带的旋转方向上,多个所述电极条的高度依次增加。

电极条的高度依次增加,不仅仅可以补偿自身损耗,同时还可补偿相对电极的损耗。例如,第一电极为阳极时,通过旋转更换电极条,不仅可以补偿第一电极的高度损耗,同时还可以补偿作为阴极的第二电极的高度损耗。

进一步地,还包括支架和驱动机构,所述支架设置在所述腔体内,支架上可转动地设置有转轴,所述环形基带套装在所述转轴上,所述驱动机构用于带动所述转轴转动,进而实现环形基带的旋转以及电极条的更替。

进一步地,所述转轴的周向上均匀布设有齿牙结构,所述环形基带上设置有与齿牙结构卡接的卡槽或卡孔。

齿牙结构和卡槽或卡孔的卡接配合,可以有效避免转轴转动过程中环形基带打滑、进而无法实现电极条精准定位。

进一步地,所述支架上设置有抵触座,抵触座设置在所述转轴靠近所述第二电极一侧;所述环形基带同时套装在所述抵触座和所述转轴上,整体呈向第二电极尖端凸出的楔形。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京科益虹源光电技术有限公司,未经北京科益虹源光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110837190.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top