[发明专利]一种适用于真空环境的抗辐射监测成像系统

说明书

本发明涉及一种适用于真空环境的抗辐射监测成像系统，包括:水平滑动组件；CCD相机，固定在水平滑动组件上；前后移动机构，包括驱动电机和精密直线移动机构，驱动电机与滑座固定连接，驱动电机驱动精密直线移动机构带动滑台沿滑座移动；上下调整机构，包括底座、移动件和调整固定件，调整固定件用于调整和固定底座和移动件之间的相对位置，移动件与滑座连接；抗干扰系统，包括相机罩、电机罩和抗干扰线管，相机罩和电机罩由金属制成，且相机罩和电机罩上设有电镀层，相机罩具有与CCD相机的镜头相对应的窗口，相机罩和电机罩连接有至少一条抗干扰线管，CCD相机和驱动电机的控制线和或信号线配置在抗干扰线管内。

技术领域

本发明涉及真空腔体成像技术领域，尤其涉及一种适用于真空环境的抗辐射监测成像系统。

背景技术

目前在真空镀膜、半导体行业、激光领域等，都大范围的使用真空腔体来提供高真空环境，有一些腔体较大，但样品处于腔体中央，经常需要使用远距离成像系统来监测样品，成本较高且经常受限于观测角度，难以得到样品状态。需要研制一种适用于真空环境的近距离成像系统，对样品、元器件或者靶点进行高分辨成像。

发明内容

鉴于上述状况，有必要提出一种能够在真空环境高分辨率成像的适用于真空环境的抗辐射监测成像系统。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：一种适用于真空环境的抗辐射监测成像系统，包括:水平滑动组件；CCD相机，固定在所述水平滑动组件上；前后移动机构，包括驱动电机和精密直线移动机构，所述驱动电机与所述滑座固定连接，所述驱动电机驱动所述精密直线移动机构带动所述滑台沿所述滑座移动；上下调整机构，包括底座、移动件和调整固定件，所述调整固定件用于调整和固定所述底座和所述移动件之间的相对位置，所述移动件与所述滑座连接；抗干扰系统，包括相机罩、电机罩和抗干扰线管，所述相机罩和所述电机罩由金属制成，且所述相机罩和所述电机罩上设有电镀层，所述相机罩罩设于所述CCD相机罩外，所述相机罩具有与所述CCD相机的镜头相对应的窗口，所述电机罩罩设于所述驱动电机外，所述相机罩和所述电机罩连接有至少一条抗干扰线管，所述CCD相机和所述驱动电机的控制线和或信号线配置在所述抗干扰线管内。

进一步的，所述CCD相机具有图像校正功能。

进一步的，所述精密直线移动机构包括丝杆，所述驱动电机驱动所述丝杆转动，带动所述滑台进行直线移动。

进一步的，还包括与所述CCD相机连接的上位机，所述上位机包括处理模块、显示屏和输入模块。

进一步的，所述窗口处设有电磁屏蔽玻璃。

进一步的，所述电磁屏蔽玻璃与相机罩密封连接。

进一步的，在相机罩内环绕所述窗口设有可调光的LED灯阵。

进一步的，所述CCD相机配备有电动三可变镜头。

进一步的，所述电镀层为镀镍层。

本发明的有益效果在于：通过前后移动机构和水平滑动组件的配合能够精密地驱动CCD相机进行前后移动，从而调节CCD相机的位置，调节CDD相机的焦点位置，自动聚焦获取更为清晰的图像；通过上下调整机构，可以根据工件的高度进行适应性调节；并且设置了抗干扰系统，对CCD相机、驱动电机以及相应的信号线或控制线进行了防护，避免了电磁干扰，提高了稳定性和成像效果。

附图说明

图1是本发明实施例一种适用于真空环境的抗辐射监测成像系统的结构示意图；

图2是本发明实施例一种适用于真空环境的抗辐射监测成像系统的另一方向的结构示意图；

图3是本发明实施例一种适用于真空环境的抗辐射监测成像系统的CCD相机的示意图。

标号说明：