[发明专利]一种复眼照明系统的匹配方法

说明书

本发明提供一种复眼照明系统的匹配方法，包括配置有光阑复眼的光阑复眼基板和配置有视场复眼的视场复眼基板，包括：获取每种照明模式下可用光阑复眼的位置，获取所述可用光阑复眼与视场复眼的最优组合，以及获得所述最优组合时所述可用光阑复眼的初始角；对当所述可用光阑复眼与视场复眼为最优组合时被重复组合所述可用光阑复眼进行重新放置，并使无法放置的光阑复眼所匹配的视场复眼通过转动偏离照明光路，使其不参与重复的照明模式，进而获得所述可用光阑复眼与视场复眼的最终组合。通过本公开的优化匹配方法，可以获得可用光阑复眼与视场复眼的最佳组合，该使得入射到掩膜版上的EUV光有相对最高的能量利用率和照明均匀性。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，具体而言，涉及一种复眼照明系统的匹配方法。

背景技术

极紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography，EUVL)是一种采用波长为13.5nm的极紫外光作为工作波长的投影光刻技术。根据瑞利判据(Rayleigh criterion)，采用极紫外光刻技术可以得到更小的曝光系统分辨率，进而使EUV成为实现7nm及其以下技术节点集成电路产业化的首选技术。

为了满足不同掩模版最优光刻分辨率的照明要求，现有技术提供了一种双排复眼光学设计。在该方案中，通过选用的光阑复眼以及，调整视场复眼与光阑复眼的匹配可以优化该系统在掩模面上照明的均匀性，因此视场复眼的光阑复眼与视场复眼的匹配方法成为极紫外光刻照明系统的关键技术。

发明内容

因此，本发明的目的是针对上述问题，提供一种复眼照明系统的匹配方法。

根据本公开的第一方面，提供了一种复眼照明系统的匹配方法，包括配置有光阑复眼的光阑复眼基板和配置有视场复眼的视场复眼基板，其特征在于，包括：

获取每种照明模式下可用光阑复眼的位置，所述可用光阑复眼可与视场复眼相互匹配，使得入射光能够射入掩膜版并形成照明；

获取所述可用光阑复眼与视场复眼的最优组合，以及获得所述最优组合时所述可用光阑复眼的初始角；所述最优组合使得多种所述照明模式并存时，多种所述照明模式入射光入射掩膜版时的入射方向与该掩膜版法向方向形成的夹角之和为最小；

对当所述可用光阑复眼与视场复眼为最优组合时重复组合所述可用光阑复眼进行重新放置获得所述可用光阑复眼与视场复眼的最终组合。

对于无法放置的光阑复眼所匹配的视场复眼，则通过转动偏离照明光路，使其不参与重复的照明模式。

在一些可能的实现方式中，还包括：通过分型方法获取每种照明模式下可用光阑复眼的位置。

在一些可能的实现方式中，获取每种照明模式下可用光阑复眼的位置的具体方法包括：

根据相干因子确定每种照明模式的比例系数；

在相干因子的范围内对该种照明模式所形成的形状进行等比例缩放；

PF矩阵与分形矩阵重合次数为奇次时，将该位置的光阑复眼赋值为1，重合次数为偶次时，将该位置的光阑复眼赋值为0；

当值为1的光阑复眼与视场复眼的个数相同时结束分型。

在一些可能的实现方式中，通过匈牙利算法获取所述可用光阑复眼与视场复眼的最优组合。

在一些可能的实现方式中，获取所述可用光阑复眼与视场复眼的最优组合的具体方法包括：

—对每种照明模式中的所述可用光阑复眼和视场复眼进行一对一匹配；

—以入射光入射到掩膜版时的入射方向与掩膜版法向方向的夹角之和最小为条件对多种照明模式中所述可用光阑复眼和视场复眼的匹配结果求解；