[发明专利]硬质涂膜、偏光板、硬质涂膜加工品、显示部件有效

专利信息
申请号: 202110794670.5 申请日: 2017-02-14
公开(公告)号: CN113448001B 公开(公告)日: 2023-08-22
发明(设计)人: 新纳干大;松井佑纪男 申请(专利权)人: 株式会社凸版巴川光学薄膜
主分类号: G02B1/14 分类号: G02B1/14;G02B5/30;G02F1/1335;B32B27/20;B32B23/08
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 常海涛;金小芳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 硬质 偏光 加工品 显示 部件
【权利要求书】:

1.一种硬质涂膜,其为在透明基材的两面上设置有硬质涂层的硬质涂膜,其特征在于,

所述透明基材的厚度为5μm以上40μm以下,

所述硬质涂层各自的厚度均为5μm以上30μm以下,

所述硬质涂层的体积的合计为所述硬质涂膜的总体积的40%以上,并且,

所述硬质涂膜的总厚度为80μm以下,

所述透明基材为三乙酸纤维素、

所述硬质涂层是含有(甲基)丙烯酸酯单体、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、重均分子量为8000至15000且双键当量为200至600g/mol的反应性高分子的组合物的固化膜,

所述重均分子量为8000至15000的反应性高分子为在主链上键合有多个(甲基)丙烯基或(甲基)丙烯酰基的高分子化合物,

以所述组合物的固体成分的10至40质量%的比例包含所述重均分子量为8000至15000的反应性高分子,

铅笔硬度为7H以上,

距离表面的深度为50nm的位置处的超微小压痕硬度为450N/mm2以上,

将所述硬质涂膜切成100mm见方而得到的样品的4角的膜立起来的高度为20mm以下,

当以10mm以上的弯曲直径弯折时,不产生裂纹。

2.根据权利要求1所述的硬质涂膜,其中,

所述透明基材的一个面上的硬质涂层含有胶体二氧化硅及紫外线固化树脂,

所述透明基材的另一个面上的硬质涂层含有紫外线固化树脂。

3.根据权利要求2所述的硬质涂膜,其特征在于,

所述胶体二氧化硅的平均粒径为80nm以下,

所述透明基材的所述一个面上的硬质涂层含有20质量%以上70质量%以下的所述胶体二氧化硅,

所述胶体二氧化硅为在表面上具有紫外线反应基团的表面处理胶体二氧化硅。

4.一种偏光板,其具有权利要求1所述的硬质涂膜。

5.根据权利要求4所述的偏光板,其特征在于,

铅笔硬度为7H以上,

距离表面的深度为50nm的位置处的超微小压痕硬度为450N/mm2以上,

将所述偏光板切成100mm见方而得到的样品的4角的膜立起来的高度为20mm以下,

当以10mm以上的弯曲直径弯折时,不产生裂纹。

6.一种显示部件,其具有权利要求4所述的偏光板。

7.一种硬质涂膜加工品,其是通过在权利要求1所述的硬质涂膜的一个面上赋予粘合层而得到的。

8.一种硬质涂膜加工品,其是通过在权利要求1所述的硬质涂膜的一个面上赋予印刷层及粘合层而得到的。

9.根据权利要求7或8所述的硬质涂膜加工品,其特征在于,

铅笔硬度为7H以上,

距离表面的深度为50nm的位置处的超微小压痕硬度为450N/mm2以上,

将所述硬质涂膜加工品切成100mm见方而得到的样品的4角的膜立起来的高度为20mm以下,

当以10mm以上的弯曲直径弯折时,不产生裂纹。

10.一种显示部件,其具有权利要求7或8所述的硬质涂膜加工品。

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