[发明专利]一种基于纳米波纹结构的纳流控芯片的制备方法

权利要求书

1.一种基于纳米波纹结构的纳流控芯片的制备方法，其特征在于所述方法包括如下步骤：

步骤一、纳米波纹结构加工

使用AFM在聚碳酸酯薄膜表面进行往复扫描加工，通过控制探针的运动轨迹得到纳米波纹结构；

步骤二、纳米通道阵列制备

以PDMS和固化剂为转印材料，通过PDMS转印得到带有纳米通道阵列的PDMS片；

步骤三、微通道模板制备

采用光刻法在单晶硅基底上加工微通道结构，通过PDMS转印得到带有微通道的PDMS片；

步骤四、微、纳通道键合

采用氧等离子体清洗机对带有纳米通道阵列的PDMS片和带有微通道的PDMS片进行键合，得到带有纳米通道阵列的纳流控芯片。

2.根据权利要求1所述的基于纳米波纹结构的纳流控芯片的制备方法，其特征在于所述运动轨迹为Z形轨迹或矩形轨迹，扫描速度为10~120μm/s，进给量为10 ~50 nm。

3.根据权利要求1所述的基于纳米波纹结构的纳流控芯片的制备方法，其特征在于所述波纹结构由凸起和沟槽阵列组成，凸起高度大于沟槽深度。

4.根据权利要求3所述的基于纳米波纹结构的纳流控芯片的制备方法，其特征在于所述凸起高度为100~400nm。