[发明专利]一种红外线转换为可见光波段图像的镜片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110789516.9 申请日: 2021-07-13
公开(公告)号: CN113589408A 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 吴建斌;吴建选;陈建发 申请(专利权)人: 艾普偏光科技(厦门)有限公司
主分类号: G02B1/10 分类号: G02B1/10;G02C7/02
代理公司: 厦门福贝知识产权代理事务所(普通合伙) 35235 代理人: 陈远洋
地址: 361028 福建省厦门市海沧区后祥*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 红外线 转换 可见光 波段 图像 镜片 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种红外线转换为可见光波段图像的镜片,其特征在于,包括镜片基片,所述镜片基片的表面自上而下依次排布二氧化硅薄膜保护层、掺杂稀土离子的上转换发光红外成像材料膜层、二氧化硅薄膜中间隔离层、二维方形纳米银金属晶体周期阵列超表面薄膜膜层以及二氧化硅薄膜打底层。

2.根据权利要求1所述的红外线转换为可见光波段图像的镜片,其特征在于,所述二氧化硅薄膜保护层的厚度为2nm~5nm,所述掺杂稀土离子的上转换发光红外成像材料膜层的厚度为10nm~50nm,所述二氧化硅薄膜中间隔离层的厚度为15nm~30nm,所述二维方形纳米银金属晶体周期阵列超表面薄膜膜层的厚度为10nm~15nm,所述二氧化硅薄膜打底层的厚度为2nm~5nm,在所述镜片基片上沉积的总体膜堆膜层的厚度范围为30nm~110nm。

3.根据权利要求1所述的红外线转换为可见光波段图像的镜片,其特征在于,所述掺杂稀土离子的上转换发光红外成像材料膜层包括上转换基材、上转换敏化剂离子以及上转换激活剂离子。

4.根据权利要求3所述的红外线转换为可见光波段图像的镜片,其特征在于,所述上转换基材包括但不仅限于四氟钇钠晶体、四氟钕钠晶体、四氟钐钠晶体、四氟铕钠晶体、四氟钆钠晶体、四氟铽钠晶体、晶体三氟化镧、三氟化钪晶体、四氟镥锂晶体、四氟镥钠晶体、四氟镱钠晶体、三氯锰铷晶体、溴化镥铯晶体、硫化钙晶体、钨酸钕晶体、钇铝石榴石晶体、钇镓石榴石晶体、钇钡氧化物晶体、三氧化二镥晶体、钽酸锂晶体、铌酸锂晶体、钒酸钇晶体、二氧化锝晶体、三氧化二钇晶体以及氧化锌晶体中的至少一种。

5.根据权利要求3所述的红外线转换为可见光波段图像的镜片,其特征在于,所述上转换敏化剂离子包括但不仅限于Yb3+、Nd3+、Pr3+、Ce3+以及Os4+中的至少一种。

6.根据权利要求3所述的红外线转换为可见光波段图像的镜片,其特征在于,所述转换激活剂离子包括但不仅限于Er3+、Tm3+、Ho3+、Sm3+、Re4+、Tb3+、Eu3+、Gd3+、Mn2+以及Mo3+中的至少一种。

7.一种红外线转换为可见光波段图像的镜片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤S1:在镜片基片上进行离子辅助轰击电子束蒸镀沉积二氧化硅打底层;

步骤S2:每个所述镜片基片上夹附掩模板,在所述二氧化硅打底层上进行电子束蒸镀沉积二维方形纳米银金属晶体周期阵列超表面薄膜膜层;

步骤S3:取掉所述掩模板,再进行离子束辅助沉积电子束蒸镀沉积二氧化硅薄膜中间隔离层;

步骤S4:在所述二氧化硅薄膜中间隔离层上继续进行离子束辅助沉积电子束蒸镀沉积掺杂稀土离子的上转换发光红外成像材料膜层;以及

步骤S5:最后进行离子束辅助沉积电子束蒸镀沉积二氧化硅薄膜保护层。

8.根据权利要求7所述的红外线转换为可见光波段图像的镜片的制备方法,其特征在于,所述掩模板采用激光干涉直写亚波长尺度的二维方形纳米周期阵列纳米尺寸开区镂空结构,所述开区镂空结构的像元尺寸为30μm×30μm,像元间距为30μm。

9.根据权利要求7所述的红外线转换为可见光波段图像的镜片的制备方法,其特征在于,步骤S2中所述二维方形纳米银金属晶体周期阵列超表面薄膜膜层的蒸束流沉积速率为0.1nm/s~1.0nm/s。

10.根据权利要求7所述的红外线转换为可见光波段图像的镜片的制备方法,其特征在于,步骤S4中所述掺杂稀土离子的上转换发光红外成像材料膜层的蒸束流沉积速率为0.3nm/s~1.0nm/s。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于艾普偏光科技(厦门)有限公司,未经艾普偏光科技(厦门)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110789516.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top