[发明专利]用于生成样品概览图像的显微镜和方法在审
申请号: | 202110783847.1 | 申请日: | 2021-07-12 |
公开(公告)号: | CN113985594A | 公开(公告)日: | 2022-01-28 |
发明(设计)人: | 克里斯蒂安·舒曼;克里斯蒂安·舒尔茨;亚历山大·韦斯 | 申请(专利权)人: | 莱卡微系统CMS有限责任公司 |
主分类号: | G02B21/02 | 分类号: | G02B21/02;G02B21/33;G02B5/00;G02B7/00;G02B13/00;G02B13/02;G02B21/24 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋融冰 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 生成 样品 概览 图像 显微镜 方法 | ||
1.一种显微镜(100),包括:
光学系统(102),其包括被设计用于具有预定折射率的浸没介质(102)的浸没物镜(106);
孔径光阑(118);以及
处理器(116),其配置成设定无浸没成像模式,其中所述光学系统(102)在没有所述浸没介质(102)的情况下操作,
其中所述处理器(116)进一步配置成在所述无浸没成像模式下控制所述孔径光阑(118),以将所述浸没物镜(106)的数值孔径设定为低于所述数值孔径的标称值的减小值,当使用所述浸没介质(108)操作所述光学系统(102)而不借助所述孔径光阑(118)减小所述数值孔径时,所述数值孔径等于所述标称值,并且
其中,所述处理器(116)进一步配置成在所述无浸没成像模式下根据所述数值孔径的所述减小值控制所述光学系统(102)以生成代表样品(104)的概览图像的至少一个图像。
2.根据权利要求1所述的显微镜(100),其中所述孔径光阑(118)具有可变的开度,并且所述处理器(116)配置成通过从最大开度减小所述孔径光阑(118)的开度来减小所述浸没物镜(106)的数值孔径,当使用所述浸没介质(108)操作所述光学系统(102)并且所述孔径光阑(118)设定为所述最大开度时,所述数值孔径等于所述标称值。
3.根据权利要求1或2所述的显微镜,其中
所述光学系统(102)包括多个透镜元件,所述多个透镜元件配置成与所述浸没物镜(106)相互作用,用于选择性地在根据所述数值孔径的所述标称值的第一操作模式下和根据所述数值孔径的所述减小值的第二操作模式下对所述样品(104)进行光学成像,所述第二操作模式代表所述无浸没成像模式,
其中所述光学系统(102)包括与所述第一操作模式相关联的第一光学子系统(120),所述第一光学子系统(120)配置成以第一视场形成所述样品(104)的第一图像,
其中所述光学系统(102)包括与所述第二操作模式相关联的第二光学子系统(122),所述第二光学子系统(122)配置成以第二视场形成所述样品(104)的至少一个第二图像,所述至少一个第二图像代表所述概览图像,所述第二视场大于所述第一视场,并且
其中所述第二光学子系统(122)包括光学模块(128),所述光学模块(128)可插入到从所述浸没物镜(106)延伸的光学路径(112)中以用于选择所述第二操作模式,所述光学模块(128)包括具有正折射力的透镜元件(130),所述透镜元件(130)当插入到所述光学路径(112)中时通过比所述光学系统(102)的其他透镜元件更靠近所述浸没物镜(106)的出射光瞳(134)而使所述第二视场大于所述第一视场。
4.根据权利要求3所述的显微镜,其中所述孔径光阑(118)包括在所述第二光学子系统(122)中。
5.根据权利要求3或4所述的显微镜(100),其中,所述光学模块(128)还包括光偏转器(132),所述光偏转器(132)配置成当插入到所述光学路径(112)中时从所述光学路径(112)分支出光学侧路径(140),所述第二图像形成在所述光学侧路径(140)中。
6.根据权利要求3至5中任一项所述的显微镜(100),其中所述第二光学子系统(122)包括开普勒望远镜系统(142),所述开普勒望远镜系统(142)具有最物体侧的第一透镜元件,所述第一透镜元件由包括在所述光学模块(128)中的具有正折射力的所述透镜元件(130)形成。
7.根据权利要求6所述的显微镜(100),其中所述开普勒望远镜系统(142)配置成形成所述出射光瞳(134)的图像(146)。
8.根据权利要求7所述的显微镜(100),其中所述孔径光阑(118)位于所述出射光瞳(134)的图像(146)的位置处,所述图像(146)形成为实像。
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