[发明专利]低噪声微小扰动型1K制冷装置

说明书

本发明公开了一种低噪声微小扰动型1K制冷装置。低噪声微小扰动型1K制冷装置包括：底板以及设于底板上的盖体，盖体与底板之间形成容纳腔；盘管，盘管设于容纳腔体中，盘管的出液口位于容纳腔体内，盘管的进液口连接外部供液氦设备，以使⁴He液体通过盘管进入容纳腔中，盘管的出液口为扁口；氦蒸汽抽吸管，穿设于盖体上，用于将容纳腔中⁴He液体上方的蒸汽抽出至外部。本发明的低噪声微小扰动型1K制冷装置通过盘管将液氦⁴He液体注入容纳腔内，⁴He液体在盘管中进行平缓及稳定流态，且盘管的出液口为扁口，通过盘管的扁口将⁴He液体喷出，可使⁴He液体流出时几乎没有什么涡流扰动，也不会产生额外的噪音与干扰。

技术领域

本发明涉及制冷技术领域，尤其涉及一种低噪声微小扰动型1K制冷装置。

背景技术

低温与超低温系统中的前级制冷或1K温区制冷系统中，把⁴He液体通过控制针阀及排放管排放到一个密闭的容器中，利用⁴He的饱和蒸气压抽吸容器中液体⁴He上面蒸气，可以实现1.2-1.5K左右的制冷温度。然而，⁴He液体在经过排放管突然排入密闭容器时，会产生很多涡流，同时带来液体的噪音和流体的扰动。这种噪音与扰动会严重影响1K制冷装置的正常工作。

因此，现有技术还有待于改进和发展。

发明内容

本发明的目的在于提供一种能稳流及降噪的低噪声微小扰动型1K制冷装置。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一种低噪声微小扰动型1K制冷装置，包括：

底板以及设于所述底板上的盖体，所述盖体与所述底板之间形成容纳腔；

盘管，所述盘管设于所述容纳腔中，所述盘管的出液口位于所述容纳腔内，所述盘管的进液口连接外部供液氦设备，以使⁴He液体通过所述盘管进入所述容纳腔中，所述盘管的所述出液口为扁口；

氦蒸汽抽吸管，穿设于所述盖体上，用于将所述容纳腔中⁴He液体上方的蒸汽抽出至外部。

作为上述低噪声微小扰动型1K制冷装置的一种可选方式，所述低噪声微小扰动型1K制冷装置还包括流量控制针阀，所述流量控制针阀的进液端与所述外部供液氦设备连接，所述流量控制针阀的出液端与所述盘管连接。

作为上述低噪声微小扰动型1K制冷装置的一种可选方式，所述盘管通过固定夹固定于所述底板上。

作为上述低噪声微小扰动型1K制冷装置的一种可选方式，所述底板上设置有用于对所述盘管进行限位的限位凹槽。

作为上述低噪声微小扰动型1K制冷装置的一种可选方式，所述盖体包括顶盖和侧壁，所述顶盖、所述侧壁以及所述底板均为无氧铜材质。

作为上述低噪声微小扰动型1K制冷装置的一种可选方式，所述盘管的出液的一端设置喷嘴，所述出液口设于所述喷嘴的末端，所述喷嘴的长度是其直径的3倍以上。

作为上述低噪声微小扰动型1K制冷装置的一种可选方式，所述盘管的所述出液口为椭圆形，椭圆形长轴与短轴的比为5/2。

作为上述低噪声微小扰动型1K制冷装置的一种可选方式，所述外部供液氦设备为⁴He杜瓦瓶。

作为上述低噪声微小扰动型1K制冷装置的一种可选方式，所述外部供液氦设备为⁴He杜瓦瓶，所述低噪声微小扰动型1K制冷装置设于所述⁴He杜瓦瓶内，所述⁴He杜瓦瓶内的液氦通过所述盘管进入所述低噪声微小扰动型1K制冷装置的所述容纳腔内。