[发明专利]基于纳米微腔的可见光分束滤波薄膜及其设计方法有效
| 申请号： | 202110773560.0 | 申请日： | 2021-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN113568099B | 公开（公告）日： | 2023-07-18 |
| 发明（设计）人： | 代尘杰;李仲阳;李哲;郑国兴;万成伟;李子乐;时阳阳;万帅 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | G02B6/125 | 分类号： | G02B6/125;G02F1/01;G02F1/00 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 肖明洲 |
| 地址： | 430072 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 纳米 可见光 滤波 薄膜 及其 设计 方法 | ||
1.一种基于纳米微腔的可见光分束滤波薄膜，其特征在于：由如下四层薄膜堆叠构成：电介质-金属-电介质-银层；所述电介质-金属-电介质-银层按照顺序依次自上而下排布；
所述电介质-金属-电介质-银层的底层金属为银，底层银的厚度为18nm；
所述电介质-金属-电介质-银层均为亚波长尺度；
所述电介质-金属-电介质-银层的工作波长由中层电介质厚度决定；
所述电介质-金属-电介质-银层中的金属层选择钛、镍或铂中任一种；金属层钛或铂或镍的厚度为12nm；所述电介质层选择二氧化硅；上层电介质二氧化硅厚度为80nm；中间层电介质二氧化硅厚度为110—180nm；
所述可见光分束滤波薄膜的工作波长能通过中间层电介质厚度调节。
2.一种基于纳米微腔的可见光分束滤波薄膜，其特征在于：由如下四层薄膜堆叠构成：电介质-金属-电介质-银层；所述电介质-金属-电介质-银层按照顺序依次自上而下排布；
所述电介质-金属-电介质-银层的底层金属为银，底层银的厚度为15nm；
所述电介质-金属-电介质-银层均为亚波长尺度；
所述电介质-金属-电介质-银层的工作波长由中层电介质厚度决定；
所述电介质-金属-电介质-银层中的金属层选择铬；金属层铬的厚度为6nm；所述电介质层选择二氧化硅；上层电介质二氧化硅厚度为80nm；中间层电介质二氧化硅厚度为145nm；
所述可见光分束滤波薄膜的工作波长能通过中间层电介质厚度调节。
3.一种设计如权利要求1或2所述基于纳米微腔的可见光分束滤波薄膜的方法，其特征在于：包含如下步骤：
S1、确定可见光分束滤波薄膜的结构为电介质-金属-电介质-银层按照顺序依次自上而下排布；
S2、选定工作波长λ1，扫描中层电介质层的厚度，使得薄膜的透射峰在λ1处；
S3、同时优化金属层和银层的厚度，使得在工作波长λ1处，透射峰和反射峰重合；
S4、改变工作波长为λ2，重新进行步骤S2、S3即可。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉大学，未经武汉大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110773560.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
