[发明专利]一种嵌套式平衡坩埚及控制方法

权利要求书

1.一种嵌套式平衡坩埚，其特征在于，所述嵌套式平衡坩埚包括外置坩埚、内置坩埚和调节装置，其中，所述内置坩埚和外置坩埚为嵌套式设置，所述内置坩埚嵌套于所述外置坩埚的内部；

所述外置坩埚包括外置坩埚盖和外置坩埚底座，所述外置坩埚盖和外置坩埚底座通过连接件进行连接；

所述外置坩埚盖上设置有孔槽，所述孔槽用于放置所述调节装置；

所述调节装置用于控制调节所述嵌套式平衡坩埚的气体进出；所述内置坩埚包括内置坩埚盖和内置坩埚底座；所述内置坩埚盖和内置坩埚底座之间设置有间隙，所述内置坩埚用于高温还原反应，所述外置坩埚用于外界隔绝空气进入所述嵌套式平衡坩埚。

2.根据权利要求1所述的嵌套式平衡坩埚，其特征在于，所述内置坩埚和外置坩埚的材质不同，所述外置坩埚的材质为石墨；所述内置坩埚的材质为氧化铝。

3.根据权利要求1所述的嵌套式平衡坩埚，其特征在于，所述调节装置的材质为高纯氧化铝。

4.根据权利要求1所述的嵌套式平衡坩埚，其特征在于，所述外置坩埚盖和外置坩埚底座通过螺纹进行连接。

5.根据权利要求4所述的嵌套式平衡坩埚，其特征在于，所述螺纹的间距为0.05mm-0.1mm。

6.根据权利要求1所述的嵌套式平衡坩埚，其特征在于，所述外置坩埚的内壁与所述内置坩埚的外壁紧密贴合。

7.根据权利要求1所述的嵌套式平衡坩埚，其特征在于，所述孔槽的尺寸和所述调节装置的尺寸相同。

8.一种根据权利要求1-7任一项所述的嵌套式平衡坩埚的控制方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1.将反应物料配加一定含量的碳充分搅拌形成样品；

S2.所述样品加入所述内置坩埚中，将所述内置坩埚放置于外置坩埚内，并将所述调节装置放置于所述孔槽处；

S3.将所述嵌套式平衡坩埚整体放置在马弗炉中进行电加热，所述样品受热后释放气体使得所述内置坩埚内气体压强增大，压强增大的气体从所述内置坩埚进入到所述外置坩埚中，当所述外置坩埚内部气体压强增大顶起所述调节装置时，所述外置坩埚内部气体将所述调节装置由所述孔槽处顶出；

S4.当所述外置坩埚内部的气体被释放后，所述外置坩埚内部的压力减小，所述调节装置回落到所述孔槽处。