[发明专利]投影光机

权利要求书

1.一种投影光机，其特征在于，包括：

投影成像系统，所述投影成像系统用于发射投影光束；

第一镜头组，所述第一镜头组设于所述投影成像系统的出射端；

第二镜头组，所述第二镜头组设于所述投影成像系统的出射端，且所述第二镜头组的光轴与所述第一镜头组的光轴交叉设置；

反射镜，所述反射镜用于对所述投影光束进行反射；

驱动装置，所述驱动装置包括第一电磁铁、第一磁体和转轴，所述反射镜可转动地设于所述转轴上，所述第一电磁铁设于所述反射镜的一侧，所述第一磁体对应所述第一电磁铁固定设于所述反射镜上；所述第一电磁铁用于通入正向或反向电流，对所述第一磁体进行吸附或排斥，以带动所述反射镜转动，使所述投影光束透过所述第一镜头组射出或透过所述第二镜头组射出。

2.如权利要求1所述的投影光机，其特征在于，所述驱动装置还包括：

第二磁体，所述第二磁体设于所述反射镜上，且所述第二磁体和所述第一磁体分别位于所述转轴的两边；

第二电磁铁，所述第二电磁铁对应所述第二磁体设置，且所述第二电磁铁和所述第一电磁铁位于所述反射镜相同的一侧；

其中，所述第一电磁铁吸附第一磁体时，所述第二电磁铁排斥所述第二磁体；所述第一电磁铁排斥第一磁体时，所述第二电磁铁吸附所述第二磁体。

3.如权利要求2所述的投影光机，其特征在于，所述驱动装置还包括：

第三电磁铁，所述第三电磁铁对应所述第二磁体设置，且所述第三电磁铁和所述第一电磁铁分别位于所述反射镜相反的两侧；

其中，所述第一电磁铁吸附第一磁体时，所述第三电磁铁吸附所述第二磁体；所述第一电磁铁排斥第一磁体时，所述第三电磁铁排斥所述第二磁体。

4.如权利要求1所述的投影光机，其特征在于，所述驱动装置还包括：

支撑板，所述支撑板可转动地套接于所述转轴上，所述反射镜与所述支撑板贴合设置，所述第一磁体与所述支撑板固定连接。

5.如权利要求1至4中任一项所述的投影光机，其特征在于，所述第一镜头组的光轴与所述投影光束的光轴重合；

其中，当所述反射镜处于第一位置，所述投影光束透过所述第一镜头组射出；当所述反射镜处于第二位置，所述投影光束镜经所述反射镜反射后透过所述第二镜头组射出。

6.如权利要求5所述的投影光机，其特征在于，所述反射镜为全反反射镜；

或者，所述反射镜为半透半反反射镜，当所述半透半反反射镜处于所述第二位置，所述投影光束还经所述半透半反反射镜透射后透过所述第一镜头组射出。

7.如权利要求6所述的投影光机，其特征在于，所述驱动装置还包括：

第一被感应件，所述第一被感应件固定设于所述反射镜上；

第一感应器，所述第一感应器设于所述反射镜的一侧，当所述反射镜处于所述第一位置，所述第一被感应件位于所述第一感应器的感应范围内；

第二感应器，所述第二感应器和所述第一感应器沿所述转轴的圆周方向布设，当所述反射镜处于所述第二位置，所述第一被感应件位于所述第二感应器的感应范围内。

8.如权利要求1至4中任一项所述的投影光机，其特征在于，所述第一镜头组的光轴、所述第二镜头组的光轴以及所述投影光束的光轴相交于同一点；

其中，当所述反射镜处于第三位置，所述投影光束经所述反射镜反射后透过所述第一镜头组射出；当所述反射镜处于第四位置，所述投影光束镜经所述反射镜反射后透过所述第二镜头组射出。

9.如权利要求8所述的投影光机，其特征在于，所述驱动装置还包括：

第二被感应件，所述第二被感应件固定设于所述反射镜上；

第三感应器，所述第三感应器设于所述反射镜的一侧，当所述反射镜处于所述第三位置，所述第二被感应件位于所述第三感应器的感应范围内；

第四感应器，所述第四感应器和所述第三感应器沿所述转轴的圆周方向布设，当所述反射镜处于所述第四位置，所述第二被感应件位于所述第四感应器的感应范围内。

10.如权利要求1所述的投影光机，其特征在于，所述投影光机还包括：

场镜，所述场镜设于所述投影成像系统的出射端和所述反射镜之间，且所述场镜具有正的光焦度。