[发明专利]用于光学瞄准装置的双焦平面分划板有效
申请号: | 202110733559.5 | 申请日: | 2016-06-15 |
公开(公告)号: | CN113446901B | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 戴维·M·汉密尔顿;塞缪尔·J·汉密尔顿 | 申请(专利权)人: | 夏尔特银斯公司D.B.A.涡流光学 |
主分类号: | F41G1/34 | 分类号: | F41G1/34;F41G1/38;F41G1/46 |
代理公司: | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 刘宪锋 |
地址: | 美国威*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 光学 瞄准 装置 平面 分划板 | ||
本发明涉及用于光学瞄准装置的双焦平面分划板,并具体提供一种光学瞄准装置,其包括:主体,其具有第一端和第二端;物镜系统,其布置在主体内;目镜,其布置在主体内;正像透镜系统,其布置在主体内;物镜系统、目镜和正像透镜系统形成具有第一焦平面的光学系统;第一分划板,其位于第一焦平面处;电子分划板,其放置在与第一分划板相同的焦平面上,并且其中电子分划板配置成选择性地显示至少以下两个标记图案中的一个:(a)与超音速图案对应的一系列下降点或其他停留瞄准点或角度标志;以及(b)与亚音速图案对应的一系列下降点或其他停留瞄准点或角度标志,并且第一分划板包括选自十字准线、一系列散列标志及其组合的至少一个显示图案。
本申请是申请号为2016800479649(国际申请号为PCT/US2016/037594)、申请日为2016年6月15日且发明名称为“用于光学瞄准装置的双焦平面分划板”的中国专利申请的分案申请。
相关申请的交叉引用
本申请要求于2015年6月17日提交的美国专利申请第14/742,415号的优先权,为了所有目的通过引用将其合并于此。
技术领域
本公开总体上涉及用于与枪械一起使用的光学瞄准装置。更具体地,本公开涉及用于在双焦平面光学瞄准装置中使用的分划板。
背景技术
分划板用在光学瞄准装置中来瞄准并测量对象的距离或尺寸。各种类型的分划板可以在诸如步枪瞄准镜的光学瞄准装置中使用。金属丝十字准线已经多年来在分划板中使用。
最近,玻璃蚀刻分划板(glass etched reticle)已经在消费者、军队和执法市场中使用的光学装置中变得流行。玻璃蚀刻分划板是一块具有蚀刻到玻璃中的图案的玻璃,然后使用气相沉积室,能够将各种物质沉积到蚀刻图案中。对于黑色特征,通常使用铬。对于“照亮”特征,通常使用二氧化钛或硅酸钠。这种精细的粉末将来自定位在分划板外壳的边缘处并且在用户的视线之外的LED的光线朝向用户的眼睛反射,并且使分划板图案看起来发光,从而在低照度的情况下很容易看到。
大多数可变倍率的光学瞄准装置具有两个焦平面。通常,可以将分划板安置在第一焦平面处、第二焦平面处或两者处。对于第一焦平面分划板和第二焦平面分划板而言存在明显的优点和缺点。
第一焦平面分划板通常具有较小的特征,这通常因为金属丝太大而防止使用金属丝。因此,玻璃蚀刻分划板通常被用于第一焦平面分划板。由于第一焦平面位于变焦放大系统(即,正像系统)的前方,所以分划板和图像在大小上会相互成比例地变化:当图像变大时,分划板上的信息以相同的比率变大。这样做的一个优点在于,在用户选择的任何放大倍数设定下,分划板上的任何测量标志都是准确的。当图像被放大时,分划板上的信息会随着图像以相同的比率变大,因此所有的分划板标记都将精确到其设计的测量尺度。然而,一个缺点在于,由于组成分划板的线条对于用户的眼睛而言将变得更粗,因为更多的可视区域被遮挡,所以看到小的对象可能变得困难。如果线条太细,在低放大倍数下(适用于较大的视场和移动对象)线条可能太细而看不清楚。另一方面,如果线条较粗并且在低放大倍数下工作良好,则在较高的放大倍数下它们会看起来太粗。
在第二焦平面分划板中,相反,其优缺点大体上与第一焦平面分划板的相反。当图像的放大倍数被改变时,因为第二焦平面分划板位于正像系统之后,第二焦平面分划板不调整大小或比例。因此,第二焦平面分划板通常按照步枪瞄准镜的特定放大倍数设定来设尺寸。为了使第二焦平面分划板上的测量标志精确,必须以给定分划板被设计针对的精确放大倍数设定来设置瞄准镜。因此,为了在另一个放大倍数下使用该测量标志,用户需要以数学方式计算差值来精确使用。由于第二焦平面分划板上的线条的粗度不随放大倍数设定而改变,所以线条可针对期望的粗度进行优化,并且在任意放大倍数下,线条将向使用者的眼睛呈现相同的粗度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏尔特银斯公司D.B.A.涡流光学,未经夏尔特银斯公司D.B.A.涡流光学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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