[发明专利]一种双纹理效果复合板手机后盖及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202110732527.3 申请日: 2021-06-29
公开(公告)号: CN113422854A 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 章颂云 申请(专利权)人: 东莞市聚龙高科电子技术有限公司
主分类号: H04M1/02 分类号: H04M1/02;B32B27/36;B32B27/30;B32B27/08;B32B33/00
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 张艳美;侯柏龙
地址: 523000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 纹理 效果 复合板 手机 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种双纹理效果复合板手机后盖的制造方法,其特征在于,制造步骤包括:

一、于PC/PMMA复合板材的PC层进行UV转印形成第一纹理层;

二、于所述第一纹理层表面进行表面镀膜处理形成第一PVD层;

三、于所述第一PVD层表面进行丝印或喷涂形成光学树脂层;

四、于所述光学树脂层表面进行UV转印形成第二纹理层,所述第二纹理层与所述第一纹理层的纹理结构不相同;

五、于所述第二纹理层表面进行表面镀膜处理形成第二PVD层;

六、于所述第二PVD层表面进行丝印或喷涂形成盖底层;

七、于所述PC/PMMA复合板材的PMMA层表面进行淋涂形成硬化层。

2.如权利要求1所述的双纹理效果复合板手机后盖的制造方法,其特征在于,步骤一中,所述PC层的折光指数为1.54~1.58;

步骤一和步骤四中,所述UV转印的转印胶水的折光指数为1.44~1.46;

步骤四中,所述光学树脂层的折光指数为1.54~1.66。

3.如权利要求1所述的双纹理效果复合板手机后盖的制造方法,其特征在于,所述第一PVD层为ZrO(锆氧化物)/SiO(硅氧化物)/NbO(铌氧化物)/SiO/NbO复合层。

4.如权利要求1所述的双纹理效果复合板手机后盖的制造方法,其特征在于,所述光学树脂层选用含硫聚合物。

5.如权利要求4所述的双纹理效果复合板手机后盖的制造方法,其特征在于,所述含硫聚合物选用如下式一、式二、式三的含硫结构单元的聚合物:

6.如权利要求1所述的双纹理效果复合板手机后盖的制造方法,其特征在于,所述第二PVD层为ZrO/SiO/NbO/SiO/NbO复合层或者ZrO/SiO/NbO/In/SiO/NbO复合层。

7.如权利要求1所述的双纹理效果复合板手机后盖的制造方法,其特征在于,所述光学树脂层的厚度为10~20微米。

8.如权利要求1所述的双纹理效果复合板手机后盖的制造方法,其特征在于,所述第一纹理层的厚度为8~12微米;所述第二纹理层的厚度为8~12微米。

9.如权利要求1所述的双纹理效果复合板手机后盖的制造方法,其特征在于,所述盖底层的厚度为40~50微米。

10.一种双纹理效果复合板手机后盖,其特征在于,采用如权利要求1-9任一项所述的制造方法制得。

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