[发明专利]一种自清洁抗菌工程塑料基体及其制备的强制送风口罩面罩

权利要求书

1.一种自清洁抗菌工程塑料基体，其特征在于，通过以下重量份原料制备而成：70-90份基材、0.01-3份低表面能助剂、0.1-5份抗菌剂、0.1-5份抗静电剂、0.1-15份纳米二氧化钛。

2.根据权利要求1所述的自清洁抗菌工程塑料基体，其特征在于，所述工程塑料基体的基材为聚乙烯、聚丙烯、聚甲醛、聚碳酸脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)、尼龙、ABA、聚氨酯、硅胶、橡胶、聚四氟乙烯中的一种或者几种材料的混合物。

3.根据权利要求1所述的自清洁抗菌工程塑料基体，其特征在于，所述低表面能助剂为硅助剂或氟助剂；所述硅助剂为γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷、γ―氨丙基三乙氧基硅烷、γ―(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷；所述氟助剂选自甲基丙烯酸十二氟庚酯、甲基丙烯酸三氟乙酯、甲基丙烯酸八氟戊酯以及全氟癸基三乙氧基硅烷。

4.根据权利要求1所述的自清洁抗菌工程塑料基体，其特征在于，所述抗菌剂为柏木油、壳聚糖、纳米二氧化钛、纳米氧化银、聚六亚甲基双胍盐酸盐和N-(三氯甲硫基)邻苯二甲酰亚胺中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的自清洁抗菌工程塑料基体，其特征在于，所述抗静电剂为脂肪酰胺类抗静电剂、炭黑、聚苯胺、纳米氮化钛。

6.一种利用权利要求1-5任一项所述的自清洁抗菌工程塑料基体制备的强制送风口罩面罩。

7.一种如权利要求6所述的强制送风口罩面罩的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)选取基体材料，低表面能助剂，抗菌剂，二氧化钛，抗静电剂通过高速混炼机混合，然后通过单螺杆挤出机或者双螺杆挤出机混合，得到工程塑料基体；

(2)通过注塑成型或者模压成型得到强制送风口罩面罩。