[发明专利]用于监测设备的消毒的系统和方法

权利要求书

1.一种设备，所述设备包括：

多个传感器，所述多个传感器定位在所述设备的相应多个表面处，其中所述多个传感器被配置为生成传感器数据，所述传感器数据指示消毒剂被施加在所述设备的所述多个表面中的一个或多个表面上；和

处理器，所述处理器通信地耦接到所述多个传感器，其中所述处理器被配置为：

从所述多个传感器接收所述传感器数据；

基于所述传感器数据确定至少一个暴露特性，其中所述至少一个暴露特性与用所述消毒剂对所述设备的所述一个或多个表面进行消毒相关联；

将所述至少一个暴露特性与跟所述至少一个暴露特性相关联的阈值参数进行比较；以及

响应于所述比较，生成指示所述设备的所述一个或多个表面被消毒的第一通知。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述至少一个暴露特性包括以下中的至少一者：所述设备的所述一个或多个表面上的含水量的量度、与在所述设备的所述一个或多个表面上施加所述消毒剂相关联的第一持续时间、在所述设备的所述一个或多个表面上施加所述消毒剂的后续实例之间的第二持续时间、以及所述消毒剂的化学性质。

3.根据权利要求1所述的设备，在接收所述传感器数据之前，其中，所述处理器被进一步配置为：

检测所述设备的所述多个表面中的所述一个或多个表面上的一个或多个触摸输入；以及

响应于所述检测，激活定位在所述设备的相应所述一个或多个表面处的所述多个传感器中的一个或多个传感器以生成所述传感器数据。

4.根据权利要求1所述的设备，在接收所述传感器数据之前，其中，所述处理器被进一步配置为：

检测所述设备的所述多个表面中的所述一个或多个表面上的一个或多个触摸输入；

响应于所述检测，识别用于用所述消毒剂消毒的所述一个或多个表面；以及

生成第二通知以指示用于用所述消毒剂消毒的所述一个或多个表面。

5.根据权利要求1所述的设备，其中，所述处理器被进一步配置为：

响应于所述比较，在所述至少一个暴露特性低于所述阈值参数时，确定所述一个或多个表面中的至少一个受污染表面；以及

生成第三通知以指示用于用所述消毒剂消毒的所述至少一个受污染表面。

6.根据权利要求1所述的设备，其中，所述处理器被进一步配置为基于所述至少一个暴露特性与所述阈值参数的比较来确定所述消毒剂的类型。

7.根据权利要求1所述的设备，其中，所述处理器被进一步配置为：

经由网络将所述传感器数据传输到服务器；以及

从所述服务器接收所述第一通知，其中所述服务器被配置为确定所述至少一个暴露特性并且基于所述至少一个暴露特性与所述阈值参数的比较来生成所述第一通知。