[发明专利]一种内嵌MoSx

权利要求书

1.一种内嵌MoS_x纳米片的三维有序大孔类石墨烯炭材料，其特征在于，该复合材料整体具有三维有序大孔结构，其中一级孔径为330～400nm、二级孔径为150～160nm，二维MoS_x纳米片紧密镶嵌于三维有序大孔炭框架内，三维有序大孔炭框架由类石墨烯碳与前驱体硝酸镍衍生出的纳米晶金属镍杂化而成；

三维有序大孔炭框架中内嵌的、单分散的MoS_x纳米片的厚度为10～30nm，其面向长度尺寸大于三维有序大孔直径或与之相当。

2.制备权利要求1所述的内嵌MoS_x纳米片的三维有序大孔类石墨烯炭材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将硝酸镍和柠檬酸溶于去离子水中，搅拌形成均一的溶液，后加入排列规整的聚甲基丙烯酸甲酯微球构成的模板浸渍12h，经抽滤和干燥后，将所得材料在惰性气氛下煅烧碳化，制备出镍金属纳米晶与类石墨烯碳杂化而成的具有三维有序大孔结构的炭框架复合材料；

(2)将步骤(1)制得的具有三维有序大孔结构的炭框架复合材料和四硫代钼酸铵加入以水为溶剂的反应釜内，恒温进行水热反应，所得产物经去离子水离心清洗后，在惰性气氛下煅烧，制得二维片状MoS_x紧密镶嵌于三维有序大孔炭基体的复合炭材料；步骤(2)四硫代钼酸铵的加入量为具有三维有序大孔结构的炭框架复合材料质量的1～40wt.％。

3.按照权利要求2所述的方法，其特征在于，步骤(1)硝酸镍和柠檬酸的摩尔比为2:1。

4.按照权利要求2所述的方法，其特征在于，步骤(1)硝酸镍的浓度为2mol/L、柠檬酸的浓度为1mol/L。

5.按照权利要求2所述的方法，其特征在于，步骤(1)所述惰性气氛为氩气，所述煅烧碳化温度为500℃，反应时间为30min，升温速率为5℃/min。

6.按照权利要求2所述的方法，其特征在于，述四硫代钼酸铵的加入量为20wt.％。

7.按照权利要求2所述的方法，其特征在于，步骤(2)所述水热反应温度为200℃，反应时间为12h。

8.按照权利要求2所述的方法，其特征在于，步骤(2)所述水热反应后煅烧温度为400℃，反应时间为30min，升温速率为5℃/min。

9.权利要求1所述的内嵌MoS_x纳米片的三维有序大孔类石墨烯炭材料的应用，用于锂离子电池负极。