[发明专利]用于制造多单元条带的方法及其应用

权利要求书

1.一种预结构化的条带部分幅面，

其中，在所述条带部分幅面的中间载体上沿着长度彼此相继地布置有多个可从所述中间载体上剥离的多单元条带(20)，

其中，每个多单元条带(20)被设置用于施加到包括多单元区域(12)和外部区域(16)的目标基底(10)上，

其中，多单元条带(20)沿着长度彼此相继地包括外部节段(22)、多单元节段(21)和另外的外部节段(22)，

其中，多单元条带(20)的多单元节段(21)被设置用于施加到目标基底(10)的多单元区域(12)上，

其中，多单元条带(20)的两个外部节段(22)被设置用于施加到目标基底(10)的外部区域(16)上，

其特征在于

多单元条带(20)的两个外部节段(22)被预结构化以将多单元条带(20)施加到目标基底上。

2.根据权利要求1所述的预结构化的条带部分幅面，其特征在于，所述外部节段(22)的预结构化在所述条带部分幅面的整个宽度上延伸。

3.根据权利要求1所述的预结构化的条带部分幅面，其中所述多单元条带(20)的两个外部节段(22)各自包括用于施加到目标基底(10)的外部区域(16)上的最小节段(26)和预结构化节段(27)。

4.根据权利要求1所述的预结构化的条带部分幅面，其中，所述多单元条带(20)沿着长度彼此相继地包括外部节段(22)的预结构化节段(27)、外部节段(22)的最小节段(26)、多单元节段(21)、另外的外部节段(22)的最小节段(26)和另外的外部节段(22)的预结构化节段(27)。

5.根据权利要求3所述的预结构化的条带部分幅面，其中将多单元条带(20)以低于2mm的位置公差施加到目标基底上，最小节段大于两倍的位置公差。

6.根据权利要求4所述的预结构化的条带部分幅面，其中将多单元条带(20)以低于2mm的位置公差施加到目标基底上，最小节段大于两倍的位置公差。

7.根据权利要求1所述的预结构化的条带部分幅面，其中将多单元条带(20)施加到目标基底上具有位置公差地进行，其中，预结构化公差大于所述位置公差。

8.根据权利要求1所述的预结构化的条带部分幅面，其中所述中间载体包括主要载体(731、831)和次要载体(733、833)，仅次要载体(733、833)是预结构化的。

9.根据权利要求3至8中任一项所述的预结构化的条带部分幅面，其中两个相邻的多单元节段(21)的外部节段包括共同的预结构化节段(27)。

10.根据权利要求3至8中任一项所述的预结构化的条带部分幅面，其中两个相邻的多单元节段(21)的外部节段具有被中间区域(23)隔开的预结构化节段(27)。

11.根据权利要求1所述的预结构化的条带部分幅面，其特征在于，所述外部节段(22)包括

- 机械式的预结构化，或

- 照射式的预结构化。

12.根据权利要求11所述的预结构化的条带部分幅面，其特征在于，所述机械式的预结构化的形式为穿孔、冲裁、冲压或者挤压。

13.根据权利要求11所述的预结构化的条带部分幅面，其特征在于，照射式的预结构化的形式为激光照射的预结构化或紫外线照射的预结构化。

14.根据权利要求1所述的预结构化的条带部分幅面，其特征在于，所述外部节段(22)的预结构化被设计为

- 单独的预结构化，

- 在部分区域中重复的预结构化或者

- 在整个预结构化节段中统一或者重复的预结构化。